[实用新型]一种蓝光纳米环光放大器有效

专利信息
申请号: 202022091165.8 申请日: 2020-09-22
公开(公告)号: CN213520698U 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 曾丽娜;李林;李再金;杨云帆;乔忠良;李功捷;陈浩;赵志斌;刘国军;曲轶;彭鸿雁 申请(专利权)人: 海南师范大学
主分类号: H01S5/187 分类号: H01S5/187;H01S5/343;H01S5/50
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 571158 *** 国省代码: 海南;46
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 放大器
【权利要求书】:

1.一种蓝光纳米环光放大器,其特征在于,在衬底层上由下至上依次包括:蓝宝石衬底(1),该衬底用于在其上外延生长蓝光纳米环光放大器各层材料;缓冲层(2),为厚度是1000nm的GaN材料,该层制作在衬底(1)之上;底部GaN同质结分布布拉格反射镜层(3),为外延生长5对不同掺杂浓度的n型n-GaN/n+-GaN 分布布拉格反射镜同质结材料,该层制作在缓冲层(2)之上;下势垒层(4),为厚度是150nm的GaN材料,制作在底部GaN同质结分布布拉格反射镜层(3)之上;有源层(5),为多量子阱,该层制作在下势垒层(4)之上;电流注入层(6),为厚度是35nm的n+-GaN材料,该层制作在有源层(5)之上;上势垒层(7),为厚度是150nm的GaN材料,制作在电流注入层(6)之上;顶部GaN同质结分布布拉格反射镜层(8),为外延生长5对不同掺杂浓度的n型n-GaN/n+-GaN 分布布拉格反射镜同质结材料,该层制作在上势垒层(7)之上;欧姆接触层(9),为厚度是300nm的n+-GaN材料,该层制作在顶部GaN同质结分布布拉格反射镜层(8)之上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于海南师范大学,未经海南师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022091165.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top