[实用新型]一种蓝光纳米环光放大器有效
申请号: | 202022091165.8 | 申请日: | 2020-09-22 |
公开(公告)号: | CN213520698U | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 曾丽娜;李林;李再金;杨云帆;乔忠良;李功捷;陈浩;赵志斌;刘国军;曲轶;彭鸿雁 | 申请(专利权)人: | 海南师范大学 |
主分类号: | H01S5/187 | 分类号: | H01S5/187;H01S5/343;H01S5/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 571158 *** | 国省代码: | 海南;46 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 放大器 | ||
1.一种蓝光纳米环光放大器,其特征在于,在衬底层上由下至上依次包括:蓝宝石衬底(1),该衬底用于在其上外延生长蓝光纳米环光放大器各层材料;缓冲层(2),为厚度是1000nm的GaN材料,该层制作在衬底(1)之上;底部GaN同质结分布布拉格反射镜层(3),为外延生长5对不同掺杂浓度的n型n-GaN/n+-GaN 分布布拉格反射镜同质结材料,该层制作在缓冲层(2)之上;下势垒层(4),为厚度是150nm的GaN材料,制作在底部GaN同质结分布布拉格反射镜层(3)之上;有源层(5),为多量子阱,该层制作在下势垒层(4)之上;电流注入层(6),为厚度是35nm的n+-GaN材料,该层制作在有源层(5)之上;上势垒层(7),为厚度是150nm的GaN材料,制作在电流注入层(6)之上;顶部GaN同质结分布布拉格反射镜层(8),为外延生长5对不同掺杂浓度的n型n-GaN/n+-GaN 分布布拉格反射镜同质结材料,该层制作在上势垒层(7)之上;欧姆接触层(9),为厚度是300nm的n+-GaN材料,该层制作在顶部GaN同质结分布布拉格反射镜层(8)之上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于海南师范大学,未经海南师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022091165.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种金属制品加工用剪截装置
- 下一篇:卸料阀及高速混合机