[实用新型]转印滚轮的移动式成形系统及离子蚀刻设备有效
申请号: | 202022097447.9 | 申请日: | 2020-09-22 |
公开(公告)号: | CN213767655U | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 林刘恭 | 申请(专利权)人: | 光群雷射科技股份有限公司 |
主分类号: | B41C1/18 | 分类号: | B41C1/18 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 李佳佳 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 滚轮 移动式 成形 系统 离子 蚀刻 设备 | ||
1.一种转印滚轮的移动式成形系统,其特征在于,所述转印滚轮的移动式成形系统包括:
一离子蚀刻设备,包含:
一无尘腔体,形成有相连通的一加工件空间及一蚀刻器空间;
一环型离子蚀刻器,安装于所述无尘腔体且位于所述蚀刻器空间内,并且所述环型离子蚀刻器具有朝向所述加工件空间的一环状驱动面;
一支撑构件,安装于所述无尘腔体且对应于所述加工件空间设置;及
一移动机构,安装于所述无尘腔体;以及
一金属转印滚轮,能拆卸地设置于所述支撑构件且位于所述加工件空间内,并且所述金属转印滚轮的外表面与所述环状驱动面呈间隔地相向设置;其中,所述移动机构能驱使所述环型离子蚀刻器与所述金属转印滚轮沿一直线方向相对地移动,以使所述环状驱动面能够相对地移动经过所述金属转印滚轮的整个所述外表面,进而通过所述环状驱动面与所述金属转印滚轮之间所形成的蚀刻离子而使所述金属转印滚轮在所述外表面上凹设形成有一转印微结构层。
2.根据权利要求1所述的转印滚轮的移动式成形系统,其特征在于,所述金属转印滚轮具有平行于所述直线方向的一中心轴线,并且所述环状驱动面呈圆环状且所述环状驱动面的圆心落在所述中心轴线;其中,所述转印滚轮的移动式成形系统进一步包含有一供电模块,并且所述供电模块与所述环型离子蚀刻器相连且用来向所述环型离子蚀刻器施加一正电压,所述供电模块与所述金属转印滚轮相连且用来向所述金属转印滚轮施加一负电压。
3.根据权利要求2所述的转印滚轮的移动式成形系统,其特征在于,所述移动机构连接于所述金属转印滚轮,并且所述移动机构能驱使所述金属转印滚轮沿所述直线方向移动。
4.根据权利要求2所述的转印滚轮的移动式成形系统,其特征在于,所述移动机构连接于所述环型离子蚀刻器,并且所述移动机构能驱使所述环型离子蚀刻器沿所述直线方向移动。
5.根据权利要求1所述的转印滚轮的移动式成形系统,其特征在于,所述环状驱动面与所述金属转印滚轮的所述外表面之间相隔有介于1毫米~39毫米的一间距。
6.根据权利要求1所述的转印滚轮的移动式成形系统,其特征在于,所述环型离子蚀刻器进一步限定为一环型变压器耦合式电浆蚀刻器、一环型反应式离子蚀刻器或一环型高密度电浆蚀刻器。
7.一种离子蚀刻设备,其特征在于,所述离子蚀刻设备用来使一金属转印滚轮的外表面形成有一转印微结构层,所述离子蚀刻设备包括:
一无尘腔体,形成有相连通的一加工件空间及一蚀刻器空间;
一环型离子蚀刻器,安装于所述无尘腔体且位于所述蚀刻器空间内,并且所述环型离子蚀刻器具有朝向所述加工件空间的一环状驱动面;
一支撑构件,安装于所述无尘腔体且对应于所述加工件空间设置;其中,所述支撑构件用来供所述金属转印滚轮设置且使所述金属转印滚轮接收于所述加工件空间,以使所述金属转印滚轮的所述外表面与所述环状驱动面呈间隔地相向设置;以及
一移动机构,安装于所述无尘腔体,用来驱使所述环型离子蚀刻器与所述金属转印滚轮沿一直线方向相对地移动。
8.根据权利要求7所述的离子蚀刻设备,其特征在于,所述环状驱动面与所述金属转印滚轮的所述外表面之间相隔有介于1毫米~39毫米的一间距。
9.根据权利要求7所述的离子蚀刻设备,其特征在于,所述环型离子蚀刻器进一步限定为一环型变压器耦合式电浆蚀刻器、一环型反应式离子蚀刻器或一环型高密度电浆蚀刻器。
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