[实用新型]一种氮化镓器件电流崩塌测试装置有效
申请号: | 202022101002.3 | 申请日: | 2020-09-23 |
公开(公告)号: | CN213780275U | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 卢益锋;蔡文必;蔡仙清;侯艺伟;刘胜厚;张辉 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安集成电路有限公司 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26;H01L29/778;H01L29/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361100 福建省厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氮化 器件 电流 崩塌 测试 装置 | ||
1.一种氮化镓器件电流崩塌测试装置,其特征在于,
包含第一高速开关(U1)、第二高速开关(U2);
所述第一高速开关(U1)、第二高速开关(U2)均为二选一开关,所述二选一开关包含第一选择端(S1)、第二选择端(S2)、公共端(D)、选择控制端(IN);
所述第一高速开关(U1)的第一选择端(S1)连接至第一电压,所述第一高速开关(U1)的公共端(D)连接至待测氮化镓器件的栅极,所述第一高速开关(U1)的第二选择端(S2)用于输入待测氮化镓器件的栅极测试电压(VGS);
所述第二高速开关(U2)的第一选择端(S1)连接至第二电压,所述第二高速开关(U2)的第二选择端(S2)用于输入待测氮化镓器件的漏极测试电压(VDS),所述第二高速开关(U2)的公共端(D)连接至待测氮化镓器件的漏极;
所述第一高速开关(U1)的选择控制端(IN)、所述第二高速开关(U2)的选择控制端(IN)分别连接至一电平控制信号(TTL)。
2.根据权利要求1所述的氮化镓器件电流崩塌测试装置,其特征在于,
所述第二高速开关(U2)的第二选择端(S2)还串联一电流测量设备。
3.根据权利要求1所述的氮化镓器件电流崩塌测试装置,其特征在于,
所述漏极测试电压(VDS)为脉冲电压,所述电平控制信号(TTL)为脉冲信号;所述漏极测试电压(VDS)与所述电平控制信号(TTL)同步且脉冲占空比相同。
4.根据权利要求1所述的氮化镓器件电流崩塌测试装置,其特征在于,
所述氮化镓器件电流崩塌测试装置还包括第一稳态电路;
所述第一稳态电路由串联的第一电阻(R1)、第一电容(C1)构成;
所述第一稳态电路的一端连接至第一高速开关(U1)的公共端(D),所述第一稳态电路的另一端接地。
5.根据权利要求4所述的氮化镓器件电流崩塌测试装置,其特征在于,
所述第一电阻(R1)、所述第一电容(C1)构成的RC电路的时间响应常数小于等于0.1μs。
6.根据权利要求1所述的氮化镓器件电流崩塌测试装置,其特征在于,
所述氮化镓器件电流崩塌测试装置还包第二稳态电路;
所述第二稳态电路由串联的第二电阻(R2)、第二电容(C2)构成;
所述第二稳态电路的一端连接至第二高速开关(U2)的公共端(D),所述第二稳态电路的另一端接地。
7.根据权利要求6所述的氮化镓器件电流崩塌测试装置,其特征在于,
所述第二电阻(R2)、所述第二电容(C2)构成的RC电路的时间响应常数小于等于0.1μs。
8.根据权利要求1所述的氮化镓器件电流崩塌测试装置,其特征在于,
所述第一高速开关(U1)的芯片型号为DG419。
9.根据权利要求1所述的氮化镓器件电流崩塌测试装置,其特征在于,
所述第二高速开关(U2)的芯片型号为DG419。
10.根据权利要求1所述的氮化镓器件电流崩塌测试装置,其特征在于,
所述待测氮化镓器件为耗尽型HEMT器件。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门市三安集成电路有限公司,未经厦门市三安集成电路有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022101002.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。