[实用新型]一种IC定位装置有效
申请号: | 202022106035.7 | 申请日: | 2020-09-23 |
公开(公告)号: | CN212874448U | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 何为华 | 申请(专利权)人: | 华芯智创科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/68 |
代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 王勇 |
地址: | 518107 广东省深圳市光明*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 ic 定位 装置 | ||
本实用新型公开了一种IC定位装置,包括装置底板、Y轴运动底板、Y轴运动滑轨、Y轴运动直线电机、X轴运动底板、X轴运动滑轨、X轴运动直线电机、真空平台和定位刀具,所述Y轴运动滑轨设于装置底板上,所述Y轴运动底板滑动设于Y轴运动滑轨上且与Y轴运动直线电机的输出端连接,所述X轴运动滑轨对称设于Y轴运动底板上,所述X轴运动底板滑动设于X轴运动滑轨上且与X轴运动直线电机的输出端连接,所述真空平台设于装置底板的一端,所述定位刀具设于X轴运动底板上。本实用新型涉及IC芯片加工技术领域,具体是提供了一种利用定位刀具带动IC芯片在真空平台上做二维运动实现最终精确定位的IC定位装置。
技术领域
本实用新型涉及IC芯片加工技术领域,具体是指一种IC定位装置。
背景技术
目前关于IC键合固晶工艺过程如下,由上料机构把基板板传送到卡具上的工作位置,先由点胶机构将基板上需要键合晶片的位置点胶,然后键合臂从原点位置运动到吸取晶片位置,晶片放置在薄膜支撑的扩张器晶片盘上,键合臂到位后吸嘴向下运动,向上运动顶起晶片,在拾取晶片后键合臂返回原点位置(漏晶检测位置),键合臂再从原点位置运动到键合位置,吸嘴向下键合晶片后键合臂再次返回原点位置,这样就是一个完整的键合过程。
此过程中,要求IC芯片放置在晶片盘上的固定位置上,晶片盘由一层很薄的膜作为基材,在取晶头吸附晶片时,晶片与晶片盘被真空装置吸附住,晶片的位置就是固定的,通过固定位置放置提高取晶的位置精度,此过程费时费力。此次发明主要是通过一个定位装置,解决IC在贴装固晶前位置不固定的问题。
实用新型内容
针对上述情况,为克服现有技术的缺陷,本实用新型提供一种利用定位刀具带动IC芯片在真空平台上做二维运动实现最终精确定位的IC定位装置。
本实用新型采取的技术方案如下:本实用新型一种IC定位装置,包括装置底板、Y轴运动底板、Y轴运动滑轨、Y轴运动直线电机、X轴运动底板、X轴运动滑轨、X轴运动直线电机、真空平台和定位刀具,所述Y轴运动滑轨对称设于装置底板上,所述Y轴运动直线电机设于装置底板上,所述Y轴运动底板滑动设于Y轴运动滑轨上且一端与Y轴运动直线电机的输出端连接,所述X轴运动滑轨对称设于Y轴运动底板上,所述X轴运动直线电机设于Y轴运动底板上,所述X轴运动底板滑动设于X轴运动滑轨上且与X轴运动直线电机的输出端连接,所述真空平台设于装置底板的一端,所述定位刀具设于X轴运动底板上,利用Y轴运动直线电机和X轴运动直线电机通过X轴运动底板带动定位刀具在真空平台上做二维空间移动,将随意放置在真空平台上的IC芯片推动至既定位置实现定位的技术效果,气流流动在真空平台上产生负压将定位好的IC芯片吸附固定住,方便吸嘴键合IC芯片。
进一步地,所述定位刀具呈L型结构设置,所述定位刀具的长边一端设于X轴运动底板上,所述定位刀具的活动端位于晶片盘上方,所述定位刀具上设有X向走风口和Y向走风口,利用X向走风口和Y向走风口方便通风,避免定位刀具在推动IC芯片过程中与真空平台之间形成密闭空间,造成运动阻力,影响定位精度。
进一步地,所述装置底板上设有Y轴运动编码器,所述Y轴运动编码器与Y轴运动直线电机电连接。
进一步地,所述Y轴运动底板上设有X轴运动编码器,所述X轴运动编码器与X轴运动直线电机电连接。
进一步地,所述定位刀具与真空平台之间的间隙宽度小于IC芯片的厚度。
进一步地,所述X轴运动滑轨与Y轴运动滑轨垂直设置。
采用上述结构本实用新型取得的有益效果如下:本方案利用定位刀具带动IC芯片在真空平台上做二维运动实现最终精确定位,解决IC芯片在贴装固晶前位置不固定的问题;利用定位刀具的L型结构方便双向推动IC芯片,利用X向走风口和Y向走风口方便通风,避免定位刀具在推动IC芯片过程中与真空平台之间形成密闭空间,造成运动阻力,影响定位精度。
附图说明
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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