[实用新型]一种易清洗化工反应釜

权利要求书

1.一种易清洗化工反应釜，包括化工反应釜的主体(1)、化工反应釜的搅拌结构、安装于主体(1)顶部的振动座结构、用于对化工反应釜内部的侧面壁进行清理处理的侧壁清理结构以及用于对化工反应釜内部底端进行清理处理的底部清理结构，其特征在于：所述主体(1)的底部安装有支撑腿，且所述主体(1)的顶部和底部分别开设有进料口(2)和排料口(3)，所述搅拌结构安装于主体(1)的顶部以及主体(1)的内部，所述振动座结构安装于主体(1)的顶部，所述侧壁清理结构安装于振动座结构的底部以及主体(1)的内部，所述底部清理结构安装于搅拌结构位于主体(1)内部的底端处，且所述底部清理结构与主体(1)的内部底端抵接。

2.根据权利要求1所述的一种易清洗化工反应釜，其特征在于：所述搅拌结构包括驱动机构(4)、搅拌轴(5)以及搅拌叶(6)，所述驱动机构(4)安装于主体(1)的顶部，所述搅拌轴(5)的一端与驱动机构(4)的输出端固定连接，且所述搅拌轴(5)远离于驱动机构(4)的一端贯穿主体(1)的顶部延伸至主体(1)的内部，所述搅拌叶(6)设置有多个，多个所述搅拌叶(6)分别固定安装于搅拌轴(5)的两侧。

3.根据权利要求1所述的一种易清洗化工反应釜，其特征在于：所述振动座结构包括安装架(7)、振动电机(8)以及振动板(9)，所述安装架(7)呈倒转的凹字型，所述安装架(7)固定安装于主体(1)的顶部，所述振动电机(8)固定安装于安装架(7)的内部底端，所述振动板(9)的顶部与振动电机(8)的输出端固定连接。

4.根据权利要求3所述的一种易清洗化工反应釜，其特征在于：所述安装架(7)的底部安装有多个伸缩连接杆(10)，多个所述伸缩连接杆(10)的伸缩端分别与振动板(9)的顶部固定连接。

5.根据权利要求1所述的一种易清洗化工反应釜，其特征在于：所述侧壁清理结构包括气缸(11)和第一刮板(12)，所述气缸(11)设置有多个，多个所述气缸(11)分别固定安装于振动板(9)的底部，且多个所述气缸(11)均设置有多个伸缩节，多个所述气缸(11)的伸缩端均贯穿主体(1)的顶部延伸至主体(1)的内部，且多个所述气缸(11)贯穿主体(1)处经过密封处理，所述第一刮板(12)为环形刮板，且所述第一刮板(12)的底部为斜面式设计，所述第一刮板(12)的顶部与多个气缸(11)伸缩端固定连接，且所述第一刮板(12)的四周侧面与主体(1)的内部四周侧面抵接。

6.根据权利要求1所述的一种易清洗化工反应釜，其特征在于：所述底部清理结构包括两个第二刮板(13)，两个所述第二刮板(13)分别固定安装于搅拌轴(5)的两侧，且两个所述第二刮板(13)的底部均与主体(1)的内部底端抵接，两个所述第二刮板(13)相互远离的一侧靠近于其底端处均呈斜面式设计。