[实用新型]一种非均布式超声波清洗装置

权利要求书

1.一种非均布式超声波清洗装置，其特征在于，包括支架，所述支架上设置有清洗单元，所述清洗单元包括两个对合在一起柱状的清洗体，两个所述清洗体通过一密封环密封相接，且其中一个所述清洗体能够相对于另一个所述清洗体产生轴向位移；两个所述清洗体上均设置有一圆管，两个所述圆管分别与外部的过滤装置相连接；

所述清洗体上开设有两个均布的第一流道和两个均布的第二流道，所述第一流道与所述第二流道相间排列，且相互重叠形成四个重合口和一个台体；其中一个所述清洗体的第一流道与另一个所述清洗体的第二流道至少有一部分重叠；

其中所述第一流道由第一锥面和第一柱面组成，所述第二流道由第二锥面和第二柱面组成，且所述第一锥面与第二锥面的深度、倾斜角度均不同，所述第一柱面与所述第二柱面的深度、内径均不同；所述第一锥面、第一柱面、第二锥面以及第二柱面的轴线均与所述清洗体的轴线相平行，且两个所述第一锥面的中心距与两个所述第二锥面的中心距不相同；

所述密封环上设置有四个沿周向均匀分布超声波发射头，所述超声波发射头发射的超声波延伸至所述第一流道和所述第二流道内，且超声波的出射方向与所述清洗体的轴线相垂直。

2.如权利要求1所述的一种非均布式超声波清洗装置，其特征在于，所述第一流道的深度与所述第二流道的深度相同；

所述第一锥面的深度大于所述第二锥面的深度，所述第一锥面的倾斜角度大于所述第二锥面的倾斜角度；

所述第一柱面的深度小于所述第二柱面的深度，所述第一柱面的内径小于所述第二柱面的内径；所述第一柱面的内径与所述第一锥面的最小内径相同，所述第二柱面的内径与所述第二锥面的最小内径相同；

两个所述第一锥面的中心距小于两个所述第二锥面的中心距；

其中一个所述清洗体上的第一柱面的轴线、另一个所述清洗体上的第二柱面的轴线、所述清洗体的轴线三者共面。

3.如权利要求2所述的一种非均布式超声波清洗装置，其特征在于，所述第一锥面的倾斜角度与所述第二锥面的倾斜角度均为锐角，且均小于45°。

4.如权利要求2所述的一种非均布式超声波清洗装置，其特征在于，所述清洗体的轴线穿过所述台体的中心，且所述第一锥面与所述第二锥面的最大内径相同。

5.如权利要求2所述的一种非均布式超声波清洗装置，其特征在于，所述第一锥面的深度与所述第二锥面的深度均大于所述重合口的深度。

6.如权利要求1所述的一种非均布式超声波清洗装置，其特征在于，两个所述清洗体相靠近的表面上均开设有四个均布的声道，所述声道贯穿至对应的第一锥面和第二锥面，当两个所述清洗体对合在一起时，各所述声道组合成四个圆柱孔。

7.如权利要求6所述的一种非均布式超声波清洗装置，其特征在于，所述超声波发射头密封设置在所述密封环上，所述密封环上开设有四个安装孔，且四个所述安装孔分别与所述声道组合成的四个圆柱孔同轴线。

8.如权利要求1所述的一种非均布式超声波清洗装置，其特征在于，所述密封环密封固定在其中一个所述清洗体上，另一个所述清洗体上固定有若干个密封圈，并通过所述密封圈插接在所述密封环内。

9.如权利要求1所述的一种非均布式超声波清洗装置，其特征在于，所述支架上设置有若干个导柱，插接在所述密封环内的所述清洗体上固定滑环，所述滑环滑动设置在所述导柱上。

10.如权利要求1所述的一种非均布式超声波清洗装置，其特征在于，插接在所述密封环内的所述清洗体上的圆管上设置有波纹管。