[实用新型]等离子体气相沉积设备

说明书

本实用新型涉及一种等离子体气相沉积设备，包括至少两个依次密封对接的工艺腔室；任一所述工艺腔室的与相邻工艺腔室对接的侧壁设有开口；相邻两个所述工艺腔室中，其一设有可密封其靠近另一的侧壁的开口的阀门。上述等离子体气相沉积设备，将阀门设于工艺腔室内，故无需在相邻两个工艺腔室之间再设置阀门密封室，即两个工艺腔室可直接密封对接，从而减少相邻两个工艺腔室之间的密封结构，从而减少相邻两个工艺腔室之间的密封失效的风险。

技术领域

本实用新型涉及等离子体气相沉积领域，特别是涉及一种等离子体气相沉积设备。

背景技术

这里的陈述仅提供与本申请有关的背景信息，而不必然构成现有技术。

一般地，为了满足产品的多次镀膜等多个需要密封条件下处理的工序的需求，等离子气相沉积设备包括多个工艺腔室。而为了实现在产品在两个工艺腔室之间的输送，在相邻两个工艺腔室的侧壁上分别设置开口，并在两个工艺腔室之间设置阀门密封室，阀门密封室两个侧壁上分别设有开口，并分别与相邻两个工艺腔室的侧壁上的开口密封对接。阀门密封室内设有分别用以密封两个侧壁上的开口的阀门。从而，打开阀门，可以实现产品在相邻两个工艺腔室之间的输送。

然而，传统的等离子气相沉积设备，相邻两个工艺腔室之间的密封容易失效，影响工艺腔室的密封效果，进而影响工艺的效果，严重的会导致泄漏风险。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种可以减少相邻两个工艺腔室之间的密封失效风险的等离子体气相沉积设备。

一种等离子体气相沉积设备，包括至少两个依次密封对接的工艺腔室；任一所述工艺腔室的与相邻工艺腔室对接的侧壁设有开口；相邻两个所述工艺腔室中，其一设有可密封其靠近另一的侧壁的开口的阀门。

上述等离子体气相沉积设备，将阀门设于工艺腔室内，故无需在相邻两个工艺腔室之间再设置阀门密封室，即两个工艺腔室可直接密封对接，从而减少相邻两个工艺腔室之间的密封结构，从而减少相邻两个工艺腔室之间的密封失效的风险。

在其中一个实施例中，至少两个工艺腔室包括至少两个可拆卸连接的第一工艺腔室；所述第一工艺腔室的相对的两个侧壁上均设有所述开口，其中仅一个所述开口配置有所述阀门；所述第一工艺腔室的开口可被密封的侧壁为第一侧壁，开口不可被密封的侧壁为第二侧壁；所述第一工艺腔室的第一侧壁与另一所述第一工艺腔室的第二侧壁可以可拆卸密封对接。

在其中一个实施例中，至少两个工艺腔室还包括第二工艺腔室，所述第二工艺腔室的一侧侧壁上设有所述开口，所述第二工艺腔室的设有开口的侧壁为第三侧壁；所述第二工艺腔室的第三侧壁与所述第一工艺腔室的第一侧壁可以可拆卸密封对接。

在其中一个实施例中，至少两个工艺腔室还包括第三工艺腔室，所述第三工艺腔室的一侧侧壁上设有所述开口，所述第三工艺腔室内设有所述阀门，以密封所述第三工艺腔室的侧壁上的开口；所述第三工艺腔室的设有所述开口的侧壁为第四侧壁，所述第三工艺腔室的第四侧壁与所述第一工艺腔室的第二侧壁可以可拆卸密封对接。

在其中一个实施例中，任一所述工艺腔室内均设有与其侧壁上的所述开口一一对应配置的所述阀门。

在其中一个实施例中，设有所述阀门的工艺腔室内设有分隔件，以将该所述工艺腔室分隔为阀门容置空间和工艺空间。

在其中一个实施例中，还包括阀门驱动组件，所述阀门驱动组件包括可转动地设于所述工艺腔室内的转轴，所述阀门与所述转轴固定连接。

在其中一个实施例中，所述阀门驱动组件还包括气缸，所述气缸伸缩以驱动所述转轴转动。

在其中一个实施例中，所述气缸与所述工艺腔室的室壁铰接，所述阀门驱动组件还包括与所述气缸铰接并与所述转轴固定连接的摇臂。