[实用新型]一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架

说明书

本实用新型公开了一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，包括上支撑盘、上支撑座、下支撑盘、下支撑座、撑杆，上支撑盘固定在上支撑座上，下支撑盘固定在下支撑座上，撑杆连接上支撑盘、下支撑盘，在上支撑盘、下支撑盘之间沿周向分布有多块活动挂板，活动挂板一侧与设置在上支撑座、下支撑座之间的转轴连接，在上支撑座、下支撑座上分别对应设置有呈圆弧形的导轨，活动挂板的另一侧的上、下部分别设置有与导轨相匹配的导向销，活动挂板可沿导轨绕转轴转动。通过转动活动挂板可以控制活动挂板到溅射阴极之间的距离，使挂板跟溅射阴极呈现不同的溅射距离，从而改变挂板各个区域的成膜厚度，给工艺调节提供的更广泛的使用条件。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，具体为一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架。

背景技术

真空磁控溅射光学镀膜设备的工作原理是：真空室先由高真空系统抽至一定的高真空后，通过质量流量控制器或压强仪器向溅镀室内充入惰性工艺气体（如氩气）至一恒定压力（如5×10-1Pa）后，在磁控阴极靶上施加一定功率的直流电源，在正负电极高压的作用下，阴极靶前方与阳极之间的气体原子被大量电离，产生辉光放电，电离的过程使氩原子为Ar+离子和可以独立运动的电子，电子在电磁场作用下会在靶材表面形成螺旋状的运动轨迹，对Ar原子产生碰撞电离，并产生二次电子；由此形成雪崩，从而产生大量的电子和带正电荷的Ar+离子。Ar+离子在电场作用下飞向阴极，碰撞靶材表面，与靶材的撞击过程中释放出能量，获得相当高能量的靶材原子脱离靶材的束缚而飞向基片，于是靶材粒子沉积在靶对面的基片上而形成薄膜。在此过程中，被镀工件安装在挂板上，挂板则固定在工件转架上，工件转架通过在真空室外用伺服电机通过同步带轮带动磁流体运动将动作引入到真空室内做圆周运动。目前，传统的挂板是一个平板式，跟溅射阴极处于一个固定的溅射距离，靶基距不能调节。

发明内容

针对上述现有技术中存在的问题，本实用新型提供一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，可以使挂板跟溅射阴极呈现不同的溅射距离，从而改变挂板各个区域的成膜厚度。

本实用新型采用的技术方案如下：一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，包括上支撑盘、上支撑座、下支撑盘、下支撑座、撑杆、活动挂板，所述上支撑盘固定在上支撑座上，所述下支撑盘固定在下支撑座上，所述撑杆连接上支撑盘、下支撑盘，在上支撑盘、下支撑盘之间沿周向分布有多块活动挂板，所述活动挂板一侧与设置在上支撑座、下支撑座之间的转轴连接，在上支撑座、下支撑座上分别对应设置有呈圆弧形的导轨，且导轨的圆弧中心点与转轴的轴线重合，所述活动挂板的另一侧的上、下部分别设置有与导轨相匹配的导向销，所述活动挂板可沿导轨绕转轴转动。

进一步地，所述活动挂板与转轴之间为可拆卸活动连接。

进一步地，所述活动挂板转动的角度在0°到70°之间。

本实用新型的一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，转动活动挂板可以通过调节角度控制活动挂板到溅射阴极之间的距离，这样就可以使挂板跟溅射阴极呈现不同的溅射距离，也就改变挂板各个区域的成膜厚度，给工艺调节提供的更广泛的使用条件。

附图说明

图1是本实用新型的立体结构示意图。

图2是本实用新型的纵向剖面示意图。

图3是本实用新型的横向剖面示意图。

图4是图3中的A处局部放大图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本实用新型作更全面、细致地描述，但本实用新型的保护范围并不限于以下具体的实施例。