[实用新型]等离子清洗机

说明书

本实用新型公开一种等离子清洗机，该等离子清洗机包括清洗机本体、第一腔体、升降装置和限位装置。所述第一腔体安装于所述清洗机本体内并用于对待清洗的物料进行清洗，所述升降装置能够带动所述第一腔体做升降运动，所述限位装置用于在所述升降装置将所述第一腔体顶升之后对所述第一腔体进行限位。本实用新型等离子清洗机可解决在现有的一些等离子清洗机中，工作人员要对其反应腔体进行清洁维护时并不是很方便的技术问题。

技术领域

本实用新型涉及等离子清洗机技术领域，特别涉及一种等离子清洗机。

背景技术

在IC行业中，基板和引线框架在生产时通常会遗留有溢胶、氧化物等污染物，进而影响焊线效果，目前主要是通过等离子清洗机对基板和引线框架进行清洗。

在清洗时，一般是将需要清洗的基板或引线框架送至等离子清洗机的反应腔体内，进而利用反应腔体内的等离子体对基板或引线框架进行清洗。而清洗一段时间后，腔体内容易出现污染，进而需要腔体进行清洁和维护。

但是在现有的一些等离子清洗机中，反应腔体是固定于清洗机内，并且随着等离子清洗机的小型化，反应腔体与其他的机构部件都安装得较为紧凑，工作人员要对反应腔体进行清洁维护时并不是很方便。

上述内容仅用于辅助理解实用新型的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种等离子清洗机，旨在解决在现有的一些等离子清洗机中，工作人员要对其反应腔体进行清洁维护时并不是很方便的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提出的等离子清洗机包括清洗机本体、第一腔体、升降装置和限位装置。所述第一腔体安装于所述清洗机本体内并用于对待清洗的物料进行清洗，所述升降装置能够带动所述第一腔体做升降运动，所述限位装置用于在所述升降装置将所述第一腔体顶升之后对所述第一腔体进行限位。

在一实施例中，所述等离子清洗机还包括升降导轨，所述第一腔体滑动安装于所述升降导轨上。

在一实施例中，所述第一腔体通过滑动件滑动安装于所述升降导轨上，所述升降装置连接于所述滑动件并可驱动所述滑动件滑动。

在一实施例中，所述限位装置包括限位气缸和限位件，所述限位件与所述限位气缸的活塞杆相连接；在所述升降装置驱动所述滑动件上升之后，所述限位件可被所述限位气缸驱动至所述滑动件的下方并与所述滑动件抵接。

在一实施例中，所述等离子清洗机还包括支撑件，所述限位气缸的活塞杆滑动穿过所述支撑件并与所述限位件连接。

在一实施例中，所述等离子清洗机还包括真空泵和连接管，所述第一腔体与所述真空泵之间通过所述连接管接通；所述连接管包括第一管段和第二管段，所述第一管段可沿所述第一腔体的升降方向相对所述第二管段运动。

在一实施例中，所述第一管段和所述第二管段之间连接有伸缩软管，所述伸缩软管沿所述第一腔体的升降方向延伸。

在一实施例中，所述第一腔体的下方还设有定位件，所述定位件用以将所述第一腔体定位于工作状态时的位置。

在一实施例中，所述定位件上连接有防撞优力胶。

在一实施例中，所述的等离子清洗机还包括第二腔体，所述第二腔体安装于所述清洗机本体内并与所述第一腔体上下相对，所述第一腔体和所述第二腔体可围合出用于清洗物料的真空腔。

本实用新型等离子清洗机通过设置有升降装置和限位装置，其中升降装置能够带动所述第一腔体做升降运动，限位装置能够在所述升降装置将所述第一腔体顶升之后对所述第一腔体进行限位。