[实用新型]一种半导体冲切设备中的上料机构有效
申请号: | 202022174605.6 | 申请日: | 2020-09-28 |
公开(公告)号: | CN212907680U | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 鲍永峰 | 申请(专利权)人: | 深圳市曜通科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67 |
代理公司: | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人: | 任芹玉 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 设备 中的 机构 | ||
1.一种半导体冲切设备中的上料机构,其特征在于:包括沿Z轴方向设置的安装板,所述安装板上设有上料平台和多组顶料装置,所述上料平台上设有至少两个可拆卸的料盒,所述料盒上设有容纳条料的第一腔体,所述顶料装置与所述料盒一一对应设置,所述顶料装置包括设置在所述安装板上的滑轨,所述滑轨沿Z轴方向设置,所述滑轨上设置可滑动的支架,所述支架上设有顶料板,所述料盒的底面及顶面分别设有供所述顶料板穿过的开口,所述开口与所述第一腔体连通,还包括驱动所述支架在所述滑轨上升降的驱动装置。
2.根据权利要求1所述的半导体冲切设备中的上料机构,其特征在于:所述上料平台包括垂直于所述安装板的托料板,所述托料板上设有多个并列的下卡板,所述下卡板与所述料盒一一对应设置,所述下卡板上设有与所述料盒相配合的引导槽。
3.根据权利要求2所述的半导体冲切设备中的上料机构,其特征在于:所述料盒的侧面设有第一长圆孔,所述第一长圆孔的长度方向与所述引导槽的长度方向平行。
4.根据权利要求1所述的半导体冲切设备中的上料机构,其特征在于:所述料盒的侧面上还设有多个贯穿所述料盒的减重孔。
5.根据权利要求1所述的半导体冲切设备中的上料机构,其特征在于:所述上料平台还包括与所述安装板垂直上料板,所述上料板上设有多个上卡板,所述上卡板与所述料盒一一对应设置,所述上卡板上设有第二腔体,所述第二腔体与所述第一腔体连通,所述上卡板上设有朝向所述料盒的第一传感器。
6.根据权利要求5所述的半导体冲切设备中的上料机构,其特征在于:所述上卡板的相对两侧分别设有安装座,所述安装座上设有朝向所述上卡板的第二传感器。
7.根据权利要求6所述的半导体冲切设备中的上料机构,其特征在于:所述安装座上设有沿Z轴方向设置的第二长圆孔,所述第二传感器在所述第二长圆孔内可滑动设置。
8.根据权利要求1所述的半导体冲切设备中的上料机构,其特征在于:所述驱动装置包括设置在所述安装板下端的电机,所述电机的输出端设有主动轮,所述安装板的上端设有与所述主动轮相配合的从动轮,所述主动轮和所述从动轮通过传送带连接,所述支架与所述传送带相连。
9.根据权利要求8所述的半导体冲切设备中的上料机构,其特征在于:所述支架上固定有夹板,所述夹板卡持所述传送带。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造