[实用新型]天线及电子装置有效

专利信息
申请号: 202022179860.X 申请日: 2020-09-28
公开(公告)号: CN212991312U 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 王锋;张子予;王伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01Q1/36 分类号: H01Q1/36;H01Q1/38
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 蒋冬梅;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 天线 电子 装置
【权利要求书】:

1.一种天线,其特征在于,包括:

透明基底以及设置在所述透明基底上的金属层;

所述金属层包括多个镂空区域,多个镂空区域中的至少一个镂空区域由至少一个金属线组围绕,所述至少一个金属线组包括至少一条金属线;所述至少一条金属线的横截面为非矩形。

2.根据权利要求1所述的天线,其特征在于,所述透明基底具有多个非平面结构,所述多个非平面结构中的至少一个非平面结构的横截面为宽度沿着远离所述透明基底表面的方向逐渐减小的形状。

3.根据权利要求2所述的天线,其特征在于,所述至少一个非平面结构为凹面结构或凸面结构。

4.根据权利要求2所述的天线,其特征在于,所述至少一条金属线覆盖所述至少一个非平面结构。

5.根据权利要求2所述的天线,其特征在于,所述透明基底的至少一个非平面结构的横截面为类楔形,所述至少一条金属线的横截面为肩章形;

所述类楔形包括两条逐渐聚拢的曲线相交形成的形状;所述肩章形的底部由两条逐渐聚拢的曲线相交形成,顶部由两条向着底部方向逐渐聚拢的曲线相交形成。

6.根据权利要求2所述的天线,其特征在于,所述透明基底的至少一个非平面结构的表面与所述透明基底表面之间的最大垂直距离与所述至少一条金属线的宽度的比值至少大于0.5。

7.根据权利要求2所述的天线,其特征在于,所述透明基底的至少一个非平面结构的表面与所述透明基底表面之间的最大垂直距离的范围为2微米至25微米,所述至少一条金属线的宽度范围为1微米至10微米。

8.根据权利要求4所述的天线,其特征在于,所述至少一个金属线组包括至少两条金属线,所述至少一个金属线组中的相邻金属线之间的间距大于或等于0.2微米。

9.根据权利要求2所述的天线,其特征在于,所述至少一个金属线组包括至少两条金属线,在垂直于透明基底的平面内,所述至少一个金属线组中的相邻金属线的倾斜方向相互平行,且所述至少一个金属线组中的至少一个金属线在所述透明基底上的投影与所述至少一个非平面结构在所述透明基底上的投影至少部分交叠。

10.根据权利要求9所述的天线,其特征在于,所述透明基底的至少一个非平面结构的横截面为V形或倒V形,所述至少一条金属线的横截面为平行四边形。

11.根据权利要求9所述的天线,其特征在于,所述至少一个金属线组中的相邻金属线之间的间距大于1微米。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的天线,其特征在于,所述天线还包括:覆盖所述金属层的有机层。

13.根据权利要求1至11中任一项所述的天线,其特征在于,所述透明基底为玻璃基底。

14.根据权利要求1至11中任一项所述的天线,其特征在于,所述至少一个镂空区域为多边形。

15.一种电子装置,其特征在于,包括如权利要求1至14中任一项所述的天线。

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