[实用新型]一种硅片用槽式抛光装置

权利要求书

1.一种硅片用槽式抛光装置，包括依次设置的预清洗槽、第一水洗槽、碱液槽、第二水洗槽、后清洗槽、第三水洗槽、酸洗槽、第四水洗槽及烘干槽，其特征在于：所述碱液槽的槽体底部设置有超声波震动装置（3），所述超声波震动装置（3）位于碱液槽中花篮（1）的第一侧端支撑架（11）的底部。

2.根据权利要求1所述的一种硅片用槽式抛光装置，其特征在于：所述花篮（1）内承载有硅片本体（2），所述硅片本体（2）的正面（4）统一朝向第一侧端支撑架（11），所述硅片本体（2）的背面（5）统一朝向第二侧端支撑架（12）。

3.根据权利要求2所述的一种硅片用槽式抛光装置，其特征在于：所述超声波震动装置（3）的震动方向由第一侧端支撑架（11）传递给第二侧端支撑架（12）。

4.根据权利要求1所述的一种硅片用槽式抛光装置，其特征在于：所述超声波震动装置（3）的个数至少同花篮（1）的个数保持一致。

5.根据权利要求1所述的一种硅片用槽式抛光装置，其特征在于：所述超声波震动装置（3）的功率为200～1000W，工作范围为28～40KHz。

6.根据权利要求1所述的一种硅片用槽式抛光装置，其特征在于：所述超声波震动装置（3）由控制系统控制。