[实用新型]一种透过率线性变化的滤光片有效
申请号: | 202022185561.7 | 申请日: | 2020-09-29 |
公开(公告)号: | CN213581424U | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 苏炎;李昱;陈居凯 | 申请(专利权)人: | 苏州众为光电有限公司 |
主分类号: | G02B5/28 | 分类号: | G02B5/28 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人: | 孔凡玲 |
地址: | 215000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 透过 线性 变化 滤光 | ||
1.一种透过率线性变化的滤光片,其特征在于,包括基层和堆叠在基层上的膜系,所述膜系的膜系结构包括八至二十个法布里-帕罗腔,所述法布里-帕罗腔的最后一层作为连接层级联下一个所述法布里-帕罗腔;
每个所述法布里-帕罗腔的最后一层为非四分之一光学厚度的折射率层。
2.根据权利要求1的所述的透过率线性变化的滤光片,其特征在于,所述每个所述法布里-帕罗腔的第一层的光学厚度通过所述连接层的光学厚度优化得出,所述法布里-帕罗腔的第一层的光学厚度为0.975至1.025个四分之一波长的光学厚度,以使此层结束时的透过率达到极值,在镀膜监控中采用极值法监控,以便接下来的每一层四分之一波长的光学厚度的膜层都可以采用极值法监控。
3.根据权利要求1的所述的透过率线性变化的滤光片,其特征在于,所述滤光片在入射角度为0-45度下,波长的插损或透过率随波长线性地递增或递减。
4.根据权利要求1的所述的透过率线性变化的滤光片,其特征在于,所述法布里-帕罗腔的数量为11至20个。
5.根据权利要求1的所述的透过率线性变化的滤光片,其特征在于,所述法布里-帕罗腔的膜系结构为:(HL)^m aH(LH)^m B或者(HL)^m aH(LH)^m BAB;其中,(HL)^m aH(LH)^mBAB为最后一层的法布里-帕罗腔的膜系结构;
其中,H为四分之一中心波长光学厚度的高折射率层,L为四分之一中心波长光学厚度的低折射率层;m为HL和LH的序列重复交替堆叠的组数,a为四分之一中心波长光学厚度系数,a为整数,B为非四分之一光学厚度的低折射率层,A为非四分之一光学厚度的高折射率层;
所述法布里-帕罗腔的第一层的光学厚度通过上一个所述法布里-帕罗腔的最后一层的光学厚度优化得出。
6.根据权利要求5的所述的透过率线性变化的滤光片,其特征在于,非四分之一光学厚度的低折射率层B的光学厚度为0.371-2.605个四分之一波长的光学厚度。
7.根据权利要求1的所述的透过率线性变化的滤光片,其特征在于,所述滤光片在1520-1570nm波段范围内的透过率以一定斜率从90%递减至10%。
8.根据权利要求5的所述的透过率线性变化的滤光片,其特征在于,所述高折射率层的折射率在1550nm的范围为1.85至2.5。
9.根据权利要求5的所述的透过率线性变化的滤光片,其特征在于,所述低折射率层的折射率在1550nm的范围为1.38至1.6。
10.根据权利要求1的所述的透过率线性变化的滤光片,其特征在于,所述基层为二氧化硅材料或硅材料基片,基层的折射率在1550nm的范围为1.45至3.5。
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