[实用新型]水壶底座结构

说明书

本实用新型公开了水壶底座结构，包括座体，所述座体上部设有与水壶底部接触的支撑面，在支撑面上设有能够对水质进行处理与改善的水处理材料。本实用新型的水处理材料为在氧化铝、高岭土中添加磁性、过渡金属材料并经1300℃至1420℃温度烧制而成的陶瓷材料。利用本实用新型的陶瓷材料对水质进行处理与改善效果好，通过本实用新型能够获得小分子团水并可降低水中耗氧量、浑浊度、氯离子，小分子团水进入人体后，能立即渗透到人体细胞中，把营养以更快的速度带入细胞，并且把细胞里的代谢废物和毒素更快地带出细胞外，使毛细血管的循环加快，促进新陈代谢，增强身体抵抗力，有利于身体健康。

技术领域

本实用新型涉及水壶技术领域，特别涉及一种水壶底座结构。

背景技术

现有技术中对水的处理，一般采用在盛水容器中设置水处理结构，主要是降低其中的水垢，但是不能改善水本身的品质，例如不能够将大水分子团转为为小水分子团，还有不能够有效地降低水中耗氧量、浑浊度、氯离子的含量，尤其是在供水质量比较差的区域，水的质量还比较严重，人长时间引用后容易对人体造成伤害，影响人体健康。

实用新型内容

本实用新型就是为了克服上述现有技术存在的缺点，提供一种水壶底座结构。本实用新型的水处理材料为在氧化铝、高岭土中添加磁性、过渡金属材料并经1300℃至1420℃温度烧制而成的陶瓷材料。利用本实用新型的陶瓷材料对水质进行处理与改善效果好，通过本实用新型能够获得小分子团水并可降低水中耗氧量、浑浊度、氯离子。

本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是：

一种水壶底座结构，包括座体，所述座体上部设有与水壶底部接触的支撑面，在支撑面上设有能够对水质进行处理与改善的水处理材料。

所述支撑面上设有向支撑面内部凹陷的凹槽，所述水处理材料设于凹槽中。

所述凹槽为环形凹槽，所述水处理材料为粉状及颗粒状结构，所述水处理材料设于环形热管中，环形热管安装在环形凹槽中。

所述环形热管为两端断开的、非完全闭合的弯管。

弯管截面形状为扁平、圆形或者椭圆形结构。

环形热管为铜管。

弯管两端分别密封。

所述水处理材料为环形板状，所述凹槽为环形凹槽，环形板安装在环形凹槽中。

在凹槽的侧壁位置设有将水处理材料可靠固定在凹槽中、防止从凹槽脱出的限位块。

所述水处理材料为在氧化铝、高岭土中添加磁性、过渡金属材料并经℃至℃温度烧制而成的陶瓷材料。

本实用新型的有益效果是：

1.本实用新型的水处理材料3为在氧化铝、高岭土中添加磁性、过渡金属材料并经1300℃至1420℃温度烧制而成的陶瓷材料。利用本实用新型的陶瓷材料对水质进行处理与改善效果好，经过试验测试，对水中镉、铅、汞、六价铬、多溴联苯(PBBs)、多溴二苯醚(PBDEs)、邻苯二甲酸酯(如邻苯二甲酸二丁酯(DBP)、邻苯二甲酸丁苄酯(BBP)、邻苯二甲酸二(2-乙基已基)酯(DEHP)和邻苯二甲酸二异丁酯(DIBP))的测试结果符合欧盟RoHS指令2011/65/EU附录II的修正指令(EU)2015/863的限值要求，有利于身体健康。

2.本实用新型能够对水质进行处理与改善，通过本实用新型能够获得小分子团水并可降低水中耗氧量、浑浊度、氯离子等。

3.通过采用板状结构的水处理材料，或者将粉状及颗粒状结构的水处理材料装入采用扁平结构的环形热管中，环形热管安装在环形凹槽中，能够增加水处理材料与被处理水的作用面积，增强处理效果，提高处理效率，同时对水处理材料进行保护，以保持长期的水处理功效，提高水处理效果。