[实用新型]一种离子除臭装置有效
申请号: | 202022208812.9 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN213913028U | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 卜凤悦 | 申请(专利权)人: | 天津市畅悦电子科技股份有限公司 |
主分类号: | B01D53/04 | 分类号: | B01D53/04;B01D53/32 |
代理公司: | 天津市尚仪知识产权代理事务所(普通合伙) 12217 | 代理人: | 王山 |
地址: | 300384 天津市滨海*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 离子 除臭 装置 | ||
本实用新型公开了一种离子除臭装置,包括:安装台、净化箱、除臭组件、吸附组件以及输送组件,所述净化箱安装在安装台上表面中心处,所述除臭组件安装在净化箱内部底端,所述吸附组件安装在净化箱内部顶端,所述输送组件安装在净化箱底端两侧,且所述输送组件与除臭组件内连通。本实用新型在吸附部的辅助下,利用若干组定位件便于工作人员对活性炭板进行限位,且便于工作人员后续抽拉取出,在气体净化中,通过若干组活性炭板可对气体中的有害物质进行吸收,保证了气体的洁净度,同时在与除臭组件的配合使用下,利用离子发生器可稳定的对气体进行除臭净化处理,实现了对气体的分级净化处理,加强了气体的洁净度,提升了整体净化效率。
技术领域
本实用新型涉及除臭设备技术领域,具体为一种离子除臭装置。
背景技术
抽气指难闻的气味,与“香气”相对,在垃圾、污水厂等市政设施,以及制药厂、油漆厂、涂料厂、皮革厂、石油化工、农药厂、制药厂、印刷厂、造纸厂、饲料加工厂等工业场所中,会产生大量的臭气,臭气直接排放会对环境造成大量的污染,因此臭气需要经过一定的净化处理达到排放标准才能够进行排放,但是现有的除臭装置在使用时,大多采用单一方式对气体进行净化处理,因此整体净化的洁净度不佳,气体中扔残留大量的杂质以及气味,增大了工作人员的二次劳动量,且传统的除臭装置无法对气体进行稳定的分级净化处理。
现有技术有以下不足:现有的除臭装置在使用时,大多采用单一方式对气体进行净化处理,因此整体净化的洁净度不佳,气体中扔残留大量的杂质以及气味,增大了工作人员的二次劳动量,且传统的除臭装置无法对气体进行稳定的分级净化处理,同时整体净化效率较低,装置整体使用存在较大的局限性。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种离子除臭装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供如下技术方案:一种离子除臭装置,包括:安装台、净化箱、除臭组件、吸附组件以及输送组件,所述净化箱安装在安装台上表面中心处,所述除臭组件安装在净化箱内部底端,所述吸附组件安装在净化箱内部顶端,所述输送组件安装在净化箱底端两侧,且所述输送组件与除臭组件内连通。
进一步的,所述安装台底端四角处均安装有滚动轮,且所述滚动轮顶端通过螺栓与安装台锁合固定。
进一步的,所述吸附组件包括吸附仓、两组进气管、两组净化腔以及两组吸附部,所述吸附仓嵌设在净化箱内部顶端,所述吸附仓侧壁通过铰链转动安装有一号仓门,所述一号仓门通过锁扣与净化箱锁合固定,且所述一号仓门与净化箱接触位置均安装有密封圈,两组所述进气管安装在净化箱顶端两侧且与吸附仓内连通,两组所述净化腔嵌设在吸附仓内部两侧,两组所述净化腔之间预留有流通腔,所述流通腔与两组净化腔内连通,两组所述吸附部匹配嵌设在两组净化腔内,外界气体经过两组进气管分别输送至两组净化腔内,之后气体通过两组净化腔进行同步的净化处理。
进一步的,两组所述吸附部均包括若干组定位件、若干组活性炭板,若干组所述定位件均匀分布在净化腔内部顶端、底端,若干组所述活性炭板匹配嵌设在若干组定位件之间,利用若干组定位件便于工作人员对活性炭板进行限位,且便于工作人员后续抽拉取出,在气体净化中,通过若干组活性炭板可对气体中的有害物质进行吸收。
进一步的,所述除臭组件包括除臭腔、离子发生器、输送管以及二号仓门,所述除臭腔嵌设在净化箱内底端,所述二号仓门通过铰链转动安装在除臭腔侧壁,且所述二号仓门与净化箱接触位置均安装有密封圈,所述离子发生器嵌设在除臭腔内,所述输送管两端分别与流通腔、除臭腔内连通,利用离子发生器可稳定的对气体进行除臭净化处理,加强了气体的洁净度,提升了整体净化效率。
进一步的,所述输送组件包括两组排气管、两组气泵,两组所述排气管匹配安装在净化箱底端两侧且与除臭腔内连通,两组所述气泵匹配套设在两组排气管端处,启动两组气泵,利用两组排气管可同步的对除臭腔内的气体进行双向的排放,保证了整体排放效率,同步提升了整体净化效率,可快速高效稳定的对气体进行分级的净化处理,保证了气体净化的精度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津市畅悦电子科技股份有限公司,未经天津市畅悦电子科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022208812.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电机防尘外壳模具用滑块死角排水位结构
- 下一篇:数据中心机房及大平层数据中心