[实用新型]真空磁控溅射镀膜装置有效
申请号: | 202022223691.5 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN213142171U | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 金忠满 | 申请(专利权)人: | 乐金显示光电科技(中国)有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 510530 广东省广州市广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 磁控溅射 镀膜 装置 | ||
1.一种真空磁控溅射镀膜装置,包括真空室,所述真空室内设置加热器,所述真空室的底部设置有冷凝组件,其特征在于,所述加热器与所述冷凝组件之间设置能够反射热辐射的反射组件,所述反射组件包括基板和挡板,所述基板上开设有第一通孔,所述挡板设置在所述基板与所述加热器之间,所述挡板与所述基板间隔,所述挡板的竖直方向的投影遮挡所述第一通孔,所述挡板与所述基板之间形成通道,所述通道与所述第一通孔连通,水蒸汽依次通过所述通道、所述第一通孔与所述冷凝组件进行热交换。
2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀膜装置,其特征在于,所述挡板的尺寸大于所述第一通孔的尺寸。
3.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀膜装置,其特征在于,所述基板上开设有多个所述第一通孔;
多个所述第一通孔通过至少一个所述挡板遮挡;或,对应每个所述第一通孔设置一个所述挡板。
4.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀膜装置,其特征在于,所述挡板与所述基板之间设置支撑件,所述支撑件的两端分别与所述挡板和所述基板连接。
5.根据权利要求4所述的真空磁控溅射镀膜装置,其特征在于,所述支撑件包括支撑柱,所述支撑柱的两端分别开设有螺纹孔,所述挡板和所述基板均开设有与所述螺纹孔对应的第二通孔,螺钉穿过所述第二通孔旋拧在所述螺纹孔内,以将所述挡板、所述支撑柱和所述基板三者连接在一起。
6.根据权利要求4所述的真空磁控溅射镀膜装置,其特征在于,所述支撑件包括套筒和螺杆,所述套筒内设置有螺纹,所述螺杆的端部能够旋拧到所述套筒内,所述套筒和所述螺杆中的一个与所述基板连接,所述套筒和所述螺杆中的另一个与所述挡板连接,所述螺杆能够绕自身轴线转动。
7.根据权利要求6所述的真空磁控溅射镀膜装置,其特征在于,所述套筒的下端与所述基板固定连接,所述螺杆的上端设置限位板,所述螺杆的非端部位置旋拧有限位螺母,所述挡板上开设有第二通孔,所述螺杆穿过所述第二通孔,所述限位板和所述限位螺母分别位于所述挡板的上下两侧,且所述限位板和所述限位螺母的尺寸均大于所述第二通孔的尺寸,所述螺杆的下端旋拧在所述套筒的内部。
8.根据权利要求1至7任一项所述的真空磁控溅射镀膜装置,其特征在于,所述真空室的底部朝向外部凹设有凹槽,所述冷凝组件包括冷却板,所述冷却板内设置有冷却剂或冷却气体,所述冷却板设置在所述凹槽内,所述第一通孔正对所述凹槽的槽口,所述基板与所述真空室的底部间隔。
9.根据权利要求8所述的真空磁控溅射镀膜装置,其特征在于,所述冷却板倾斜设置。
10.根据权利要求1至7任一项所述的真空磁控溅射镀膜装置,其特征在于,所述基板的边缘与所述真空室的内壁间隔设置。
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