[实用新型]透明导电薄膜及包含其的触控面板

说明书

一种透明导电薄膜及包含其的触控面板，包括一基板；以及一导电网格薄膜，形成于该基板上；其中，该导电网格薄膜由多个纳米银线搭接而成，且该透明导电薄膜经弯折250,000次后，该导电网格薄膜的电阻值变化率小于1％。

技术领域

本实用新型涉及一种透明导电薄膜及包含其的触控面板，尤其涉及用于可挠性触控面板的一种透明导电薄膜及包含其的可挠性触控面板。

背景技术

近年来，触控面板的应用范围越来越广泛，更多电子产品增加了触控面板以提供使用者直接进行操作或下达指令的功能，而其中，可挠性触控面板的需求日渐增加，为了符合该需求，近年来出现了许多替代氧化铟锡(ITO)的导电材料，以提供良好的可挠性质以及优异的导电性。

其中，网格化的铜金属薄膜经常替代氧化铟锡薄膜做为触控面板中导电薄膜，然而，铜金属网格一直存在黄化指数(b*值)过高以及反光的光学问题，且规则的网格图案的铜反光容易产生建设性干涉，形成所谓摩尔纹(moire effect)的问题，故为了避免铜金属网格产生的光学问题影响导电薄膜的光穿透度，通常会在铜金属网格上进行黑化处理以降低其可视性，或是进一步缩小铜金属网格的线宽。然而，不论是黑化处理或缩小网格的线宽，都会增加导电薄膜的制备步骤并降低产品良率，另外，生产成本也会增加。

而纳米银线具有高导电性以及绝佳的柔韧度，但若利用纳米银线形成导电层，由于纳米银会产生表面电浆共振效应，使其在波长为320nm至420nm的范围会吸收紫外光，故由纳米银线所制备的导电膜会呈现黄色，进而影响显示面板输出图像的颜色。

因此，目前亟需一种新颖的透明导电薄膜及包含其的触控面板，以改善利用铜金属网格或纳米银线层制备的可挠性透明导电薄膜的光学缺陷以及提升产品的良率，同时提供优异的导电特性。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供了一种新颖的透明导电薄膜，包括：一基板；以及一导电网格薄膜，形成于该基板上；其中，该导电网格薄膜由多个纳米银线搭接而成，且该透明导电薄膜经弯折250,000次后，该导电网格薄膜的电阻值变化率小于1％。

在一实施例中，该透明导电薄膜的光穿透率大于90％。

在一实施例中，该导电网格薄膜包括多个纳米银线区以及多个空白区，所述纳米银线形成于所述纳米银线区，其中，每一所述纳米银线区的宽度为1至10μm，每一所述空白区的面积为100至200μm²。

在一实施例中，所述空白区的总面积与该导电网格薄膜的面积的比率为0.9至0.999。

在一实施例中，该导电网格薄膜还包括一硬涂层，覆盖或包覆所述纳米银线。

在一实施例中，该基板包括一显示区以及一非显示区，该导电网格薄膜形成于该显示区中。

在一实施例中，该透明导电薄膜还包括多个导线，形成于该基板的该非显示区中，并与该导电网格薄膜导通，其中，所述导线由多个纳米银线搭接而成。

本实用新型还提供一种触控面板，该触控面板包括：一第一基板，具有一第一表面以及相反于该第一表面的一第二表面；一第一导电网格薄膜，形成于该第一基板的该第一表面上；以及一第二导电网格薄膜，设置于该第一基板的该第一表面的上方或设置于该第一基板的该第二表面上；其中，该第一导电网格薄膜及第二导电网格薄膜由多个纳米银线搭接而成，且该触控面板经弯折250，000次后，该第一导电网格薄膜及第二导电网格薄膜的电阻值变化率小于1％。

在一实施例中，该触控面板还包括一第二基板以及一粘着层，该第二基板具有一上表面以及相反于该上表面的一下表面，该第二导电网格薄膜形成于该第二基板上，该粘着层形成于该第二基板与该第一导电网格薄膜之间。

在一实施例中，该第二导电网格薄膜形成于该第一基板的该第二表面上。