[实用新型]一种恒界面萃取池

说明书

本实用新型公开了一种恒界面萃取池，包括上搅拌部、下搅拌部、界面池体、界面旋动轴、池体盖、界面挡板、支撑架和支撑座；界面池体安装于支撑架中部；界面挡板包括上挡板和下挡板，该界面挡板置于界面池体内，并将该界面池体分成重相室和轻相室，重相室位于轻相室下方，重相室和轻相室之间的接触面积通过界面挡板调节；池体盖扣盖于界面池体顶部；上搅拌部的一端置于支撑架上部，其另一端贯穿池体盖延伸至轻相室的底部；界面旋动轴的一端贯穿池体盖与上挡板连接，并用于驱动该上挡板旋转；下搅拌部的一端置于支撑架的下部，其另一端贯穿界面池体的底面延伸至重相室的底部；上搅拌部置于界面池体的竖直中心面的一侧，下搅拌部置于竖直中心面的另一侧。

技术领域

本实用新型涉及一种恒界面萃取池。

背景技术

目前，萃取反应的研究大都倾向于萃取工艺及平衡条件的探索，而萃取动力学的研究，尚缺乏相关数据。

萃取动力学研究的结果，在工业化或半工业化生产中对萃取设备的选型设计、操作条件、提高萃取效率等有着重要的指导意义。因此，若想深入了解萃取反应的本质，就必须要对萃取动力学的数据进行研究测定。

然而，萃取动力学的研究装置应用较为广泛的是恒界面池法，本发明人研究发现，恒界面池还存在有以下几点缺陷：一是搅拌强度的限制，提高搅拌强度会导致两相界面的不稳定，界面的稳定和搅拌强度二者不能同时兼顾；二是，两相界面积不能任意调整。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有技术缺陷，而提供一种恒界面萃取池。

为了实现上述本实用新型的目的，采取如下技术方案：

一种恒界面萃取池，包括上搅拌部、下搅拌部、界面池体、界面旋动轴、池体盖、界面挡板、支撑架和支撑座；所述界面池体安装于支撑架的中部；所述界面挡板包括上挡板和下挡板，且该界面挡板置于界面池体内，并将该界面池体分成重相室和轻相室，所述重相室位于所述轻相室的下方，而所述重相室和轻相室之间的接触面积通过界面挡板调节；所述池体盖扣盖于界面池体的顶部；所述上搅拌部的一端置于所述支撑架的上部，其另一端贯穿池体盖延伸至所述轻相室的底部；所述界面旋动轴的一端贯穿池体盖与上挡板连接，并用于驱动该上挡板旋转；所述下搅拌部的一端置于所述支撑架的下部，其另一端贯穿所述界面池体的底面延伸至所述重相室的底部；其中，所述上搅拌部置于所述界面池体的竖直中心面的一侧，所述下搅拌部置于所述竖直中心面的另一侧。

工作原理：

轻相室用于存放轻相液，重相室用于存放重相液，上搅拌部对轻相室内的轻相液进行搅拌，下搅拌部对重相室内的重相液进行搅拌，上搅拌部和下搅拌部分别位于界面池体的竖直中心面的两侧，因而上搅拌部和下搅拌部相应偏心设置，既能提高搅拌强度的同时，又可极大程度的降低界面的扰动；界面旋动轴驱动上挡板转动，上挡板和下挡板之间的连通面积改变，进而重相室和轻相室的连通面积发生改变。

作为技术方案的进一步改进，所述上搅拌部包括上搅拌电机、上搅拌轴、上搅拌叶、上电机控制器、上控制器支架、上电机支架；所述上搅拌轴的一端贯穿池体盖与上搅拌叶连接，所述上搅拌轴的另一端与上搅拌电机传动连接；所述上搅拌电机的一端安装于上电机支架的一端，所述上电机支架的另一端安装于支撑架；所述上电机控制器安装于上控制器支架的一端，该上控制器支架的另一端安装于支撑架；其中，所述上电机控制器和上搅拌电机电连接。

作为技术方案的进一步改进，所述下搅拌部包括下搅拌电机、下搅拌轴、下搅拌叶、下电机控制器、下控制器支架、下电机支架；所述下搅拌轴的一端贯穿界面池体的底部与下搅拌叶连接，所述下搅拌轴的另一端与下搅拌电机传动连接；所述下搅拌电机的一端安装于下电机支架的一端，所述下电机支架的另一端安装于支撑架；所述下电机控制器安装于下控制器支架的一端，该下控制器支架的另一端安装于支撑架；其中，所述下电机控制器和下搅拌电机电连接。