[实用新型]一种基于冷却窑的挡水结构

说明书

本实用新型涉及一种基于冷却窑的挡水结构，包括冷却窑窑体，冷却窑窑体的外壁上设有光圈，光圈下方设有滚动支撑座，冷却窑窑体的上方设有喷淋装置，冷却窑窑体的外壁上固定有多块阻水板；阻水板的两端分别设置有一个挡水板，挡水板为圆环形板，挡水板的板面与阻水板的端面密封连接，挡水板的内圈与冷却窑窑体的外壁密封连接，阻水板远离冷却窑窑体的边缘上设置有向阻水板两侧延伸的翻边。本实用新型的优点在于：设置翻边可减少冷却水在冷却窑旋转过程中被甩出的量，延长了冷却水在冷却窑表面停留的时间，从而提高了冷却效果；挡水板将阻水板与光圈分隔开，从而对光圈起到了保护作用，延长了光圈的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及，特别是一种基于冷却窑的挡水结构。

背景技术

氢氧化锂为白色结晶粉末，能溶于水，微溶于醇等有机溶剂，在电池、化工、能源、冶金、陶瓷、半导体等领域均得到广泛的应用。目前主要生产氢氧化锂的方法是以锂辉石为原料，经过高温煅烧转型，硫酸化焙烧，冷冻分离硫酸钠，蒸发、低温重结晶而得，生产工艺中使用冷却窑对煅烧的物料进行冷却。

我司目前的冷却窑采用风冷和水冷相结合的方式，其中在水冷结构中，采用了水槽板，通过挡水板将水槽板分成若干段，冷却时，冷却水集中在两块水槽板与挡水板之间，从而对冷却窑进行冷却。随着冷却窑转动，水槽板与挡水板之间的冷却水受离心力影响，向远离冷却窑表面的一侧甩出，从而影响冷却效果。另外，冷却水沿水槽板向窑尾端移动时，冷却水会对光圈和旋转支撑座进行冲刷，导致光圈与旋转支撑座的滚轮之间的润滑失效，从而加快了光圈的磨损。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种基于冷却窑的挡水结构。

本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：

一种基于冷却窑的挡水结构，包括冷却窑窑体，所述冷却窑窑体的外壁上设置有光圈，所述光圈下方设置有滚动支撑座，所述滚动支撑座的滚轮与光圈滚动接触，所述冷却窑窑体的上方设置有喷淋装置，所述喷淋装置将冷却水喷淋在冷却窑窑体的表面上，所述冷却窑窑体的外壁上固定有多块阻水板，所述阻水板的延伸方向与冷却窑窑体的轴线方向相同；所述阻水板的两端分别设置有一个挡水板，所述挡水板为圆环形板，所述挡水板的板面与阻水板的端面密封连接，所述挡水板的内圈与冷却窑窑体的外壁密封连接，所述阻水板远离冷却窑窑体的边缘上设置有向阻水板两侧延伸的翻边。

进一步地，所述阻水板的板面上间隔开设有多个缺口，相邻两块阻水板上的缺口错开设置。

进一步地，相邻两块阻水板之间的距离a为10～20cm，翻边的高度b为2～3cm。

进一步地，所述阻水板的高度c为10～20cm，所述挡水板的高度d大于阻水板的高度c。

进一步地，所述缺口的深度a为阻水板的宽度的1/2～2/3。

进一步地，所述喷淋装置包括集水箱、水泵、输水管、喷淋管和喷淋头，所述集水箱置于冷却窑窑体的下方，所述水泵置于集水箱内，所述水泵的出水口与输水管的下端连接，所述输水管的上端与喷淋管连通，所述喷淋管沿冷却窑窑体的轴线方向设置，所述喷淋管的管路上间隔安装有多个喷淋头，所述喷淋头位于冷却窑窑体的正上方。

进一步地，所述集水箱与冷却窑窑体之间还设置有集水板，所述集水板倾斜设置，且所述集水板的上端延伸至挡水板的下方，下端与集水箱的上边缘相接。

本实用新型具有以下优点：

1、本实用新型在阻水板的外侧边缘上设置了向阻水板两侧延伸的翻边，可减少冷却水在冷却窑旋转过程中被甩出的量，延长了冷却水在冷却窑表面停留的时间，从而提高了冷却效果。

2、本实用新型在阻水板的两端设置挡水板，将阻水板与光圈分隔开，可防止冷却水对光圈进行冲刷，从而对光圈起到了保护作用，延长了光圈的使用寿命。