[实用新型]一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统有效

专利信息
申请号: 202022280377.0 申请日: 2020-10-13
公开(公告)号: CN212513240U 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 王彤 申请(专利权)人: 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司
主分类号: G01F25/00 分类号: G01F25/00
代理公司: 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 代理人: 丁剑
地址: 213100 江苏省常州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 cvd 涂层 设备 气体 质量 流量计 校准 系统
【权利要求书】:

1.一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统,包括第一气体支路(1)与第二气体支路(2),其特征在于:所述第一气体支路(1)的内部包含有第一气体浮子流量计(3)、第一气体质量流量计(4)与第一气动波纹阀(5),所述第二气体支路(2)的内部包含有第二气体浮子流量计(6)、第二气体质量流量计(7)与第二气动波纹阀(8),所述第一气动波纹阀(5)的底部固定连接有气体汇流排(9),所述气体汇流排(9)的右侧端固定安装有汇流排出口气动波纹阀(10),所述汇流排出口气动波纹阀(10)的右侧端固定安装有手阀(11),所述手阀(11)的右侧端固定安装有测试罐(12),所述测试罐(12)的右侧端固定安装有测试罐出口气动波纹阀(15),所述测试罐出口气动波纹阀(15)的右侧端固定安装有液环真空泵(16)。

2.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统,其特征在于:所述第二气动波纹阀(8)的底部固定连接有气体汇流排(9)。

3.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统,其特征在于:所述测试罐(12)的顶部分别固定连接有压力变送器(13)与热电偶(14)。

4.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统,其特征在于:所述液环真空泵(16)的一侧固定安装有碱液管(17),所述液环真空泵(16)的另一端固定安装有排空管(18)。

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