[实用新型]一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统有效
申请号: | 202022280377.0 | 申请日: | 2020-10-13 |
公开(公告)号: | CN212513240U | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
发明(设计)人: | 王彤 | 申请(专利权)人: | 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司 |
主分类号: | G01F25/00 | 分类号: | G01F25/00 |
代理公司: | 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 | 代理人: | 丁剑 |
地址: | 213100 江苏省常州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 cvd 涂层 设备 气体 质量 流量计 校准 系统 | ||
1.一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统,包括第一气体支路(1)与第二气体支路(2),其特征在于:所述第一气体支路(1)的内部包含有第一气体浮子流量计(3)、第一气体质量流量计(4)与第一气动波纹阀(5),所述第二气体支路(2)的内部包含有第二气体浮子流量计(6)、第二气体质量流量计(7)与第二气动波纹阀(8),所述第一气动波纹阀(5)的底部固定连接有气体汇流排(9),所述气体汇流排(9)的右侧端固定安装有汇流排出口气动波纹阀(10),所述汇流排出口气动波纹阀(10)的右侧端固定安装有手阀(11),所述手阀(11)的右侧端固定安装有测试罐(12),所述测试罐(12)的右侧端固定安装有测试罐出口气动波纹阀(15),所述测试罐出口气动波纹阀(15)的右侧端固定安装有液环真空泵(16)。
2.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统,其特征在于:所述第二气动波纹阀(8)的底部固定连接有气体汇流排(9)。
3.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统,其特征在于:所述测试罐(12)的顶部分别固定连接有压力变送器(13)与热电偶(14)。
4.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统,其特征在于:所述液环真空泵(16)的一侧固定安装有碱液管(17),所述液环真空泵(16)的另一端固定安装有排空管(18)。
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