[实用新型]一种高出光率深紫外LED有效

专利信息
申请号: 202022285008.0 申请日: 2020-10-14
公开(公告)号: CN213782036U 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 王志涛 申请(专利权)人: 扬州紫王优卫科技有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/60
代理公司: 深圳紫晴专利代理事务所(普通合伙) 44646 代理人: 陈映辉
地址: 225100 江苏省扬州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 高出光率 深紫 led
【说明书】:

实用新型公开了一种高出光率深紫外LED,包括基板、围坝、透光窗口和深紫外LED芯片,所述围坝设于基板上,所述围坝上开设有深紫外LED芯片放置腔,所述深紫外LED芯片倒装设于深紫外LED芯片放置腔内,所述深紫外LED芯片的背面为发光面,所述深紫外LED芯片的正面设于基板上,所述透光窗口覆盖设于围坝上,所述深紫外LED芯片放置腔内壁为抛光内壁,所述深紫外LED芯片放置腔内壁上镀设有紫外高反射介质膜。本实用新型涉及LED光源技术领域,具体是提供了一种通过光学抛光配合真空镀膜技术,将侧向发出的紫外线能量反射至正面,提高深紫外LED出光效率的高出光率深紫外LED。

技术领域

本实用新型涉及LED光源技术领域,具体是指一种高出光率深紫外LED。

背景技术

深紫外线是一种波长比较短的紫外线,杀灭细菌和病毒的效率比较高。深紫外线的应用很广泛,其中包括:饮用水、空气、饮料、药品包装的消毒;手术器械消毒及无菌状态保持;在冰箱内,杀灭存活的霉菌孢子,更加延长食物保存期。除消毒作用外,深紫外线还能够进行光化学催化、油墨固化等等。

现有技术中,深紫外LED大都是采用芯片倒装的方式,仅有60%的紫外线能量从正面发出,另外40%的紫外线能量从侧面发出,深紫外LED的支架大部分选用陶瓷基板加金属围坝的结构,金属围坝无法反射深紫外LED芯片侧面发出的紫外线能量,导致从侧面发出的紫外线能量浪费。

实用新型内容

针对上述情况,为克服现有技术的缺陷,本实用新型提供了一种将侧面发出的紫外线能量反射至正面,提高深紫外LED出光效率的高出光率深紫外LED。

本实用新型采取的技术方案如下:本实用新型一种高出光率深紫外LED,包括基板、围坝、透光窗口和深紫外LED芯片,所述围坝设于基板上,所述围坝上开设有深紫外LED芯片放置腔,所述深紫外LED芯片倒装设于深紫外LED芯片放置腔内,所述深紫外LED芯片的背面为发光面,所述深紫外LED芯片的正面设于基板上,所述透光窗口覆盖设于围坝上,所述深紫外LED芯片放置腔内壁为抛光内壁,所述深紫外LED芯片放置腔内壁上镀设有紫外高反射介质膜,紫外高反射介质膜通过真空镀膜技术完成,紫外高反射介质膜对发射至深紫外LED芯片放置腔内壁上的紫外光进行反射,与深紫外LED芯片通过深紫外LED芯片放置腔正上方开口发出的紫外光汇聚。

进一步地,所述深紫外LED芯片放置腔呈碗状结构设置,深紫外LED芯片放置腔内侧的圆弧形可以使侧面发射的紫外光更便于反射。

作为优选地,所述基板为陶瓷基板。

作为优选地,所述围坝为石英围坝。

作为优选地,所述透光窗口为石英透光窗口。

采用上述结构本实用新型取得的有益效果如下:本方案一种高出光率深紫外LED通过将深紫外LED芯片放置腔设置为碗状结构,同时对深紫外LED芯片放置腔内侧壁进行光学抛光处理,并在抛光的深紫外LED芯片放置腔内侧壁真空镀设紫外高反射介质膜,通过光学抛光配合真空镀膜技术,实现了深紫外LED芯片侧面紫外光能量的高度集中反射,与深紫外LED芯片正上方的紫外光能量汇聚,提高了LED出光效率。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:

图1为本实用新型一种高出光率深紫外LED的现有技术的工作状态示意图;

图2为本实用新型一种高出光率深紫外LED的结构示意图;

图3为本实用新型一种高出光率深紫外LED的工作状态示意图。

其中,1、基板,2、围坝,3、透光窗口,4、深紫外LED芯片,5、深紫外LED芯片放置腔,6、紫外高反射介质膜。

具体实施方式

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