[实用新型]晶片胶体修复涂布装置

权利要求书

1.一种晶片胶体修复涂布装置，用于将修复液均匀地涂布于晶片胶体上，以修复该晶片胶体的表面刮痕，其特征在于，包括：

一工作载台，用于承载该晶片胶体；

一修复液涂布轮，可活动旋转地对应于该工作载台布置，用以对位于该工作载台上的该晶片胶体进行该修复液的涂布作业；

一修复液供给单元，对应于该修复液涂布轮布置，用以将该修复液供应给该修复液涂布轮；

一修复液整平轮，可活动旋转地对应于该工作载台布置，用以对位于该工作载台上的该晶片胶体上的该修复液进行均匀的抹平作业，其中该修复液涂布轮与该修复液整平轮呈前后排列设置；以及

一整平马达，动力连结于该修复液整平轮，用以驱动该修复液整平轮旋转。

2.如权利要求1所述的晶片胶体修复涂布装置，其特征在于，还包括：

一清洁轮，可活动旋转地对应于该工作载台布置，用以对位于该工作载台上的该晶片胶体进行吸尘清洁作业；以及

一清洁马达，动力连结于该清洁轮，用以驱动该清洁轮旋转。

3.如权利要求1所述的晶片胶体修复涂布装置，其特征在于，还包括：

一升降台，可活动升降地设置于该工作载台的一侧，该修复液涂布轮及该修复液整平轮以前后排列方式枢设于该升降台上。

4.如权利要求2所述的晶片胶体修复涂布装置，其特征在于，还包括：

一升降台，可活动升降地设置于该工作载台的一侧，该修复液涂布轮、该修复液整平轮以及该清洁轮以前后排列方式枢设于该升降台上。

5.如权利要求1所述的晶片胶体修复涂布装置，其特征在于，该修复液涂布轮包括一涂布轴管及一吸液棉轮，该吸液棉轮设于该涂布轴管的外周面。

6.如权利要求1所述的晶片胶体修复涂布装置，其特征在于，该工作载台包括一吸附面，该吸附面上穿设有复数个气孔，该吸附面以真空吸附方式来固定及释放该晶片胶体，该修复液涂布轮以及该修复液整平轮可相对该工作载台的该吸附面水平横移。

7.如权利要求1所述的晶片胶体修复涂布装置，其特征在于，还包括：

一修复液涂布轮放置盘，对应于该工作载台布置，用以供与该修复液涂布轮放置并防止该修复液挥发。

8.如权利要求4所述的晶片胶体修复涂布装置，其特征在于，还包括：

一升降机构，包含一升降轨道、一升降马达及该升降台，该升降马达系驱动该升降台于该升降轨道升降；以及

一平移机构，连接于该升降机构，用以带动该升降台水平横移。

9.如权利要求1所述的晶片胶体修复涂布装置，其特征在于，还包括：

另一工作载台，用于承载另一晶片胶体，该另一工作载台与该工作载台呈前后排列设置；

一清洁轮，可活动旋转地对应于该另一工作载台布置，用以对位于该另一工作载台上的该另一晶片胶体进行吸尘清洁作业；

一清洁马达，动力连结于该清洁轮，用以驱动该清洁轮旋转；以及

一升降台，可活动升降地设置于该工作载台的一侧，该清洁轮、该修复液涂布轮以及该修复液整平轮以前后排列方式枢设于该升降台上。

10.如权利要求1所述的晶片胶体修复涂布装置，其特征在于，还包括：

一导引齿条，设于该工作载台的一侧；以及

一带动齿轮，连接于该修复液涂布轮，该带动齿轮啮合于该导引齿条。