[实用新型]一种密封式旋转匀胶设备

说明书

本实用新型一种密封式旋转匀胶设备，包含有主机架（3），所述主机架（3）上竖向设置有转动主轴（10），所述转动主轴（10）由主动力机构（7）驱动旋转，载物盘（4）固定安装于转动主轴（10）的顶部，且载物盘（4）位于主机架（3）的平台面上方，基片顶升机构（9）安装于主机架（3）的平台面下方，且基片顶升机构（9）的顶升件向上穿过主机架（3）的平台面，载物盘（4）上方设置有同步盖（2），且同步盖（2）的顶部中心轴旋转插接在同步盖提升机构（1）上。本实用新型一种密封式旋转匀胶设备，能够方便的对超大尺寸基片进行旋涂匀胶。

技术领域

本实用新型涉及一种旋转匀胶设备，尤其是一种密封式结构的旋转匀胶设备。

背景技术

目前，大型激光设备制造过程，需要采用涂胶设备对超大尺寸基片进行光刻胶的涂覆（即匀胶工艺）。常规的光刻胶涂覆工艺有喷涂、旋涂（旋转涂胶）及刮涂等，其中旋涂工艺的膜厚均匀性最好。

但是，如今半导体行业内的旋转涂胶设备无法完成大尺寸基片的光刻胶涂覆工艺，极少数定制的超大尺寸涂胶设备结构简单，只能实现基片的旋转，无法避免涂胶过程中的气流影响，从而无法保证方型基片的涂胶工艺。为此，亟需一种能够解决上述问题的旋涂匀胶设备。

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种能够方便的对超大尺寸基片进行旋涂匀胶的密封式旋转匀胶设备。

本实用新型的目的是这样实现的：

一种密封式旋转匀胶设备，包含有主机架，所述主机架上竖向设置有转动主轴，所述转动主轴由主动力机构驱动旋转，载物盘固定安装于转动主轴的顶部，且载物盘位于主机架的平台面上方，基片顶升机构安装于主机架的平台面下方，且基片顶升机构的顶升件向上穿过主机架的平台面，载物盘上方设置有同步盖，且同步盖的顶部中心轴旋转插接在同步盖提升机构上。

本实用新型一种密封式旋转匀胶设备，所述主动力机构经由同步传动带驱动转动主轴旋转，且同步传动带由同步带张紧机构提供张紧力。

本实用新型一种密封式旋转匀胶设备，所述主机架侧壁上安装有小车导向定位机构，用于对装载有集片的小车进行定位导向。

本实用新型一种密封式旋转匀胶设备，滑动设置于平移机构上的自动涂胶臂位于载物盘上方；用于对放置于载物盘上的集片进行旋涂作业。

本实用新型一种密封式旋转匀胶设备，自动腐蚀臂安装于主机架旁。

本实用新型一种密封式旋转匀胶设备，所述载物盘上设置有真空吸附孔，上述转动主轴经旋转接头与载物盘箱连接，且真空吸附孔经由旋转接头上的气孔连通至抽真空装置。

本实用新型一种密封式旋转匀胶设备，所述同步盖提升机构包含有水平设置的连接平板，同步盖的顶部中心轴旋转插接在连接平板的一端上，该连接平板滑动设置于竖向安装的滑轨模组上，且连接平板的另一端上设置有配重，使得其可承受重量较大的同步盖的开盖和闭盖。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型可方便的为基片（尤其是超大尺寸）提供旋涂工艺，且加装自动腐蚀臂臂后可进行湿法腐蚀工艺，实现一机多用；同时，本实用新型设备整体结构紧凑，在保证涂胶和腐蚀工艺的前提下，设备自动化程度较高，便于超大尺寸基片的工艺生产要求。

附图说明

图1为本实用新型一种密封式旋转匀胶设备的结构示意图。

图2为本实用新型一种密封式旋转匀胶设备的正视图。

图3为本实用新型一种密封式旋转匀胶设备的侧视图。

图4为本实用新型一种密封式旋转匀胶设备的俯视图。

其中：