[实用新型]一种腐蚀箔的打孔设备

说明书

本实用新型公开了一种腐蚀箔的打孔设备，反应槽位于电磁反应腔内部，电极位于反应槽内部，导电辊位于反应槽顶部，底辊位于反应槽底部，超声波发射器位于反应槽正上方，双层单向过滤膜位于底辊下方，过滤器与反应槽通过过滤管道相连，换热器与反应槽通过换热管道相连，换热器与过滤器通过过滤管道相连，蒸汽管道安装在换热器的底部和顶部，槽液添加管道安装在反应槽的顶部，腐蚀箔经由导电辊和底辊通过反应槽。本实用新型具有以下优点：通过电磁反应腔，加快电极之间电荷运动速度，显著提升腐蚀箔打孔效果；通过超声波发射器和过滤膜，加快槽液反应杂质沉淀，提升产品品质和成品率。

技术领域

本实用新型属于电化学技术领域，具体涉及一种腐蚀箔的打孔设备。

背景技术

电极箔作为电容器的重要储能元器件，广泛应用于各类电容器产品中。电极箔共有两道生产工序，分别是腐蚀和化成工序，腐蚀的原理是通过电化学腐蚀，在光箔表面打孔，扩大光箔表面积，为电荷附着提供场所；化成的原理是通过加电作用在腐蚀箔表面产生氧化膜，从而成为电极箔。电极箔的品质取决于腐蚀工序的质量，所以腐蚀箔的打孔工艺十分关键。传统的电化学打孔，是通过对电极和导电辊加电，将高浓度混酸作为反应介质，进行电化学腐蚀。该打孔工艺存在一些问题，包括：1、在反应过程中，会产生大量铝粉和自由铝离子，这些杂质会附着在腐蚀箔表面和底辊表面，挤压后产生麻坑，造成产品损耗；2、由于腐蚀箔和电极之间存在间距，所以电离子的传导完全依赖电荷在槽液中的自由移动，降低加电效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服以上不足之处，提供一种加电效率高、结构简单、操作方便的腐蚀箔的打孔设备。

本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：一种腐蚀箔的打孔设备，包括反应槽、电磁反应腔、电极、导电辊、底辊、所述反应槽位于电磁反应腔内部，所述电极位于反应槽内部，所述底辊有一对，位于反应槽底部，所述导电辊有一对，位于反应槽液面之上，所述电极有两对，分别位于导电辊和底辊之间，腐蚀箔经由导电辊和底辊牵引穿过一对电极之间，上下进出反应槽，所述电极与电源的负极相连，导电辊与电源的正极相连。

进一步的，所述电磁反应腔含有为缠绕线圈的螺线管，通电可产生电磁场。

进一步的，所述反应槽顶部还安装有超声波发生器。

进一步的，反应槽的上部，还安装有槽液添加管道。

进一步的，所述底辊下方，单向过滤膜将所述反应槽的底部分割，所述过滤器反应槽通过过滤管道相连，过滤器进口管分别连接于单向过滤膜的下方，出口管位于单向过滤膜的上方，同时位于所述反应槽的上部。

进一步的，所述单向过滤膜是双层的。

进一步的，换热器与所述反应槽通过换热管道相连，换热管道进口连接于单向过滤膜上方，同时位于所述反应槽的上部，换热管道出口连接于所述反应槽的上部。

进一步的，蒸汽管道安装在所述换热器的底部和顶部。

进一步的，所述换热器的进口换热管道与所述过滤器出口过滤管道通过三通相连。

综上所述，本实用新型与现有技术相比具有以下优点：通过电磁反应腔，加快电极之间电荷运动速度，提升加电效率；通过超声波发射器垂直向下发射超声波，加快反应杂质的沉淀；通过双层单向过滤膜，保证杂质能够通过过滤膜至反应槽底，而不会反向滤出；通过使用过滤器，将沉淀的杂质过滤，保证槽液的洁净程度。对比传统设备，使用该打孔工艺方法，加电效率提升20%，产品损耗下降30%，槽液添加量下降10%。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图中标号：1-反应槽；2-电磁反应腔；3-电极；4-导电辊；5-底辊；6-超声波发射器；7-双层单向过滤膜；8-过滤管道；9-过滤器；10-换热管道；11-换热器；12-蒸汽管道；13-槽液添加管道；14-腐蚀箔。