[实用新型]一种扩散炉的冷却结构有效
申请号: | 202022315020.1 | 申请日: | 2020-10-17 |
公开(公告)号: | CN214842455U | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 林佳继;郭永胜;刘群;庞爱锁;林依婷 | 申请(专利权)人: | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
主分类号: | F27B17/00 | 分类号: | F27B17/00;F27D9/00 |
代理公司: | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
地址: | 518118 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 扩散 冷却 结构 | ||
一种扩散炉的冷却结构,包括设置在扩散炉内部的内管以及设置在内管外侧的保温层、隔离层和冷却层,所述隔离层设置于保温层与冷却层之间;所述冷却层设置于隔离层外侧;本实用新型设置冷却层,加快扩散炉的冷却,减少生产用时,增加生产效率,同时也能够加快主炉柜内的降温,避免电气设备长时间处于高温状态而损坏,能够尽可能的大面积的进行降温,而且降温的区域分布均匀,本设备能够尽可能的大面积的进行降温,而且降温的区域分布均匀。
技术领域
本实用新型涉及一种扩散炉,特别是涉及一种扩散炉的冷却结构。
背景技术
半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业,半导体和光伏材料通常都需要经过加工处理才能够应用到产品上,CVD技术、扩散工艺或氧化工艺是现有的一些处理方式。
低压扩散炉,用于在低压氛围下,实现化学反应和分子沉积成膜,成膜以后可以通过加热进行高温扩散,从而实现半导体或光伏原材料表面掺杂的功能,通过这种方式可以进行半导体或光伏材料的表面加工。但是目前的低压扩散炉由于是柜式结构,通风性差,散热不好,导致柜内的温度会随着扩散炉的温度的上升而快速上升,而且不易降温,这会导致柜内温度过高,影响电气设备的正常工作。同时由于生产中自然散热的速度很慢,变相增加了生产所花费的时间,影响生产效率。
实用新型内容
本实用新型的目的是解决现有技术的不足,提供一种炉体的冷却结构,结构简单,使用方便。
一种扩散炉的冷却结构,包括设置在扩散炉内部的内管以及设置在内管外侧的保温层、隔离层和冷却层,所述隔离层设置于保温层与冷却层之间;所述冷却层设置于隔离层外侧。
进一步的,所述冷却层设置有水盘管,所述水盘管包括直管、弯管;所述弯管设置于直管之间;所述直管之间相互平行设置,直管平行于扩散炉的中轴线。
进一步的,所述冷却层还设置有固定管;所述固定管呈“T”型,固定管包括固定部与连接部,固定部与连接部一体制成;所述固定部垂直于连接部,固定部为中空的管道;所述连接部用于连接固定管与扩散炉。
进一步的,所述直管包括水管、进水管和出水管;所述水管的长度短于扩散炉的长度。
进一步的,所述扩散炉设置于主炉框架上,主炉框架的顶部设置有水冷盘;所述水冷盘包括箱体、连接脚、曲管;所述连接脚和曲管设置于箱体;水冷盘连接水盘管。
进一步的,所述曲管包括曲管一和曲管二;所述曲管一整体呈“L”型,一端与箱体连接;所述曲管二整体呈“L”型,一端与箱体连接;曲管二设置于曲管一的正下方。
进一步的,箱体一端连接有U型槽,所述曲管一和曲管二设置于U型槽内。
进一步的,所述主炉框架还设置有风冷系统,所述风冷系统包括排风扇以及通气口。
进一步的,所述主炉框架顶端还设置水箱盖;所述水冷盘设置于水箱盖与主炉框架之间;所述主炉框架还设置风冷系统;所述风冷系统包括排风扇和通气孔;所述排风扇设置于水箱盖的顶部;所述通气孔设置于主炉框架的底部以及侧面。
采用本实用新型的有益效果在于:
本实用新型设置冷却层,加快扩散炉的冷却,减少生产用时,增加生产效率,同时也能够加快主炉柜内的降温,避免电气设备长时间处于高温状态而损坏。
水冷盘中设置流速控制装置,扩散炉升温时降低流速,减小能源的消耗;扩散炉降温的时候,加快流速,加速降温。
主炉框架还设置风冷装置,进一步帮助扩散炉的内部进行降温。
水盘管包括直管和弯管,直管平行于扩散炉中轴线地设置于冷却层,能够尽可能的大面积的进行降温,而且降温的区域分布均匀。
附图说明
图1为本实用新型扩散炉结构图;
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