[实用新型]一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置

说明书

本实用新型适用于复合纳米材料镀膜技术领域，提供了一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置，其特征在于，包括真空箱、顶盖、铰支架、密封窗、第一蒸发室、第二蒸发室、第三蒸发室、真空泵、冷凝泵，由于所述行星轮、所述太阳轮和所述内啮合齿轮构成行星轮系，且所述内啮合齿轮固定在真空箱下部，所以所述行星轮在实现围绕所述太阳轮公转的同时可以实现自转，这样有利于多个靶材的镀层，同时保证靶材的镀层均匀，而多个蒸发室则能满足复合纳米涂层的镀膜要求。

技术领域

本实用新型属于复合纳米涂层镀膜技术领域，尤其涉及一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置。

背景技术

一种由金属或合金与一种或多种陶瓷相组成的非均质的复合材料，根据各组成相所占百分比不同，金属陶瓷分为以陶瓷为基质和以金属为基质两类，以陶瓷为基质的金属陶瓷具有耐高温、抗化学腐蚀、导热性好、机械强度高等特点，以金属为基质的金属陶瓷有高温强度高、密度小、易加工、耐腐蚀、导热性好等特点。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法。

由于金属陶瓷两个种类的性能具有一定差别，有时不能采用电镀或者化学镀，致使镀膜效率低，故这些问题有待解决。

实用新型内容

本实用新型提供一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置，旨在解决镀膜效率低的问题。

本实用新型是这样实现的，一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置。其特征在于，包括真空箱、顶盖、铰支架、密封窗、第一蒸发室、第二蒸发室、第三蒸发室、真空泵；

所述真空箱包括真空腔、载物盘、行星轮、内啮合齿轮、太阳轮，所述真空箱内部凹陷的矩形空间为所述真空腔，所述真空腔下部设有四个所述载物盘，所述载物盘通过轴链接有所述行星轮，所述行星轮接近公转中心的位置啮合有所述太阳轮，所述太阳轮下端键连接有一伺服电机，所述行星轮远离公转中心的位置啮合有所述内啮合齿轮，所述内啮合齿轮外侧固定于所述真空箱内；

所述第一蒸发室包括蒸发腔、第一接线柱、金属丝、第二接线柱、镀膜孔，所述第一蒸发室内部设有所述蒸发腔，所述蒸发腔内部分别设有所述第一接线柱和所述第二接线柱，所述第一接线柱和所述第二接线柱顶部固定有所述金属丝，所述第一蒸发室靠近所述真空腔的一侧设有所述镀膜孔；

所述真空箱上部设有所述顶盖，所述顶盖设有两组共4个所述铰支架，所述铰支架与所述密封窗铰接，所述密封窗中间设有观察窗，所述真空箱下部三面分别设有所述第一蒸发室、所述第二蒸发室、所述第三蒸发室，所述真空箱另一面设有所述真空泵；

所述第一蒸发室与所述第二蒸发室和所述第三蒸发室结构相同。

更进一步地，四个所述行星轮均布在所述太阳轮四周。

更进一步地，所述金属丝安装高度位于所述镀膜孔中心线上。

更进一步地，所述金属丝形状为螺旋线。

更进一步地，所述镀膜孔形状为喇叭口，且开口较大的一侧朝向所述金属丝。

更进一步地，所述真空泵上设有真空表。