[实用新型]一种对被腔体间隔的内腔侧壁进行清洁的清洁结构

权利要求书

1.一种对被腔体间隔的内腔侧壁进行清洁的清洁结构，其特征在于：包括内部清洁件和外部清洁件，所述外部清洁件包括磁块(222)、被磁块(222)吸引且置于腔体外壁(120)上的第一金属件(221)，所述磁块(222)设置于腔体内并与所述第一金属件(221)磁性连接，所述内部清洁件包括被磁块吸引且置于内腔中的第二金属件(211)，所述第二金属件(211)与所述磁块(222)磁性连接并沿腔体内壁(110)移动，所述第二金属件(211)外侧包覆清洁层(300)。

2.根据权利要求1所述的对被腔体间隔的内腔侧壁进行清洁的清洁结构，其特征在于：所述第一金属件(221)与所述第二金属件(211)为铁或磁块。

3.根据权利要求1所述的对被腔体间隔的内腔侧壁进行清洁的清洁结构，其特征在于：所述第一金属件(221)、所述磁块(222)、及所述第二金属件(211)均为永磁体。

4.根据权利要求1所述的对被腔体间隔的内腔侧壁进行清洁的清洁结构，其特征在于：所述清洁层包括清洗布或清洁海绵。

5.根据权利要求1所述的对被腔体间隔的内腔侧壁进行清洁的清洁结构，其特征在于：所述磁块(222)形状与腔体(130)形状匹配设置。

6.根据权利要求1所述的对被腔体间隔的内腔侧壁进行清洁的清洁结构，其特征在于：所述第一金属件(221)外套设一壳体(2211)，所述壳体(2211)设置凸出部(2212)。