[实用新型]一种可旋转磁场的磁流变3D抛光装置有效
申请号: | 202022343089.5 | 申请日: | 2020-10-20 |
公开(公告)号: | CN213765113U | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 向定艾 | 申请(专利权)人: | 德阳展源新材料科技有限公司 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B31/112;B24B31/12 |
代理公司: | 成都时誉知识产权代理事务所(普通合伙) 51250 | 代理人: | 汪林 |
地址: | 618000 四川省德阳*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 旋转 磁场 流变 抛光 装置 | ||
本实用新型公开一种可旋转磁场的磁流变3D抛光装置,包括抛光盘(1)、励磁线圈(2)、第一托盘(3)、传动机构和驱动机构,所述抛光盘(1)底部设有凹槽,所述凹槽为圆柱状,所述励磁线圈(2)的顶端与凹槽内壁通过轴承相连,所述励磁线圈(2)的底端上设有第二托盘(4),所述励磁线圈(2)的底端与第二托盘(4)固定连接,所述第二托盘(4)底面设有连接杆,所述连接杆通过轴承与第一托盘(3)相连,所述连接杆通过传动机构与驱动机构连接。本实用新型中,励磁线圈可以自转,实现磁场变化,且可以相对于抛光盘转动,实现磁场旋转,从而实现多角度的对待抛光物体抛光,提高抛光速率。
技术领域
本实用新型涉及抛光技术领域,具体为一种可旋转磁场的磁流变3D抛光装置。
背景技术
磁流变抛光技术是20世纪90年代由 KORDONSKI及其合作者将电磁学、流体动力学、分析化学、加工工艺学等相结合而提出的一种新型的光学表面加工方法,具有抛光效果好、不产生次表面损伤、适合复杂表面加工等传统抛光所不具备的优点,但现有技术中,通常磁场固定,操作单一,从而导致抛光速率低的问题。
实用新型内容
为了解决上述现有技术中存在问题,本实用新型提供一种可旋转磁场的磁流变3D抛光装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种可旋转磁场的磁流变3D抛光装置,包括抛光盘、励磁线圈、第一托盘、传动机构和驱动机构,所述励磁线圈设置在抛光盘下方,所述励磁线圈的底端上设有第二托盘,所述励磁线圈的底端与第二托盘固定连接,所述第二托盘底面设有连接杆,所述连接杆通过轴承与第一托盘相连,所述连接杆通过传动机构与驱动机构连接。进一步的,所述传动机构包括主动带轮和从动带轮,所述从动带轮固定在连接杆上,且与连接杆同轴,所述从动带轮与主动带轮通过皮带连接,所述主动轮固定在转动轴上,所述转动轴一端与第一托盘通过轴承连接,所述转动轴的另一端通过轴承与抛光盘底面连接,所述转动轴与驱动机构连接。
进一步的,所述励磁线圈有四个,且四个励磁线圈呈环形排列。
进一步的,所述驱动机构包括电机和减速机,所述电机的输出端与减速机的输入端相连,所述减速机的输出端通过皮带、带轮与转动轴相连,所述驱动机构固定在第一托盘上。
进一步的,所述抛光装置还包括支撑架,所述支撑架包括第三托盘和支撑柱,所述第三托盘与支撑柱固定连接,所述第一托盘设置在第三托盘内,且第一托盘与第三托盘固定连接。
进一步的,所述支撑柱连接第二驱动机构。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:
本实用新型中,励磁线圈可以自转,实现磁场变化,且可以相对于抛光盘转动,实现磁场旋转,从而实现多角度的对待抛光物体抛光,提高抛光速率。
附图说明
图1为本实用新型示意图;
图2为本实用新型除去抛光盘后的俯视图;
图3为支撑架示意图;
图中,1-抛光盘,2-励磁线圈,3-第一托盘,4-第二托盘,501-主动带轮,502-从动带轮,503-转动轴,601-减速机,7-支撑架,701-第三托盘,702-支撑柱。
具体实施方式
为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图说明本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围不局限于以下所述。
下面结合实施例对本实用新型作进一步的描述,所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例,并不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域的普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的其他所有实施例,都属于本实用新型的保护范围。
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