[实用新型]一种静电夹盘及其等离子体处理装置有效

申请号：	202022343117.3	申请日：	2020-10-20
公开（公告）号：	CN213546260U	公开（公告）日：	2021-06-25
发明（设计）人：	黄国民;赵函一;吴狄;倪图强	申请（专利权）人：	中微半导体设备（上海）股份有限公司
主分类号：	H01J37/32	分类号：	H01J37/32;H01L21/67;H01L21/683
代理公司：	上海元好知识产权代理有限公司 31323	代理人：	张妍;贾慧琴
地址：	201201 上海市浦东新***	国省代码：	上海;31
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摘要：
搜索关键词：	一种静电及其等离子体处理装置
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【权利要求书】：

1.一种静电夹盘，包括一静电吸附层和位于静电吸附层下方的基座，其特征在于，所述静电吸附层为陶瓷材料，所述基座包括靠近所述静电吸附层的第一金属层和位于第一金属层下方的第二金属层，所述第一金属层的热膨胀系数大于所述静电吸附层的热膨胀系数，小于等于所述第二金属层的热膨胀系数，所述第一金属层的热膨胀系数小于15×10^-6/K。

2.如权利要求1所述的静电夹盘，其特征在于，所述基座还包括第三金属层，设置于所述第二金属层下方，所述第三金属层的热膨胀系数大于或等于第二金属层的热膨胀系数。

3.如权利要求1所述的静电夹盘，其特征在于，所述第一金属层的热膨胀系数小于等于静电吸附层热膨胀系数的1.3倍。

4.如权利要求1所述的静电夹盘，其特征在于，所述静电夹盘的工作环境温度为50℃至-180℃。

5.如权利要求1所述的静电夹盘，其特征在于，所述静电夹盘的工作环境温度为0℃至300℃。

6.如权利要求1所述的静电夹盘，其特征在于，所述第一金属层和第二金属层的侧壁表面涂覆陶瓷涂层。

7.如权利要求1所述的静电夹盘，其特征在于，所述基座内部设置有冷却通道，所述冷却通道位于所述第一金属层内或第二金属层内或第一金属层与第二金属层之间。

8.如权利要求7所述的静电夹盘，其特征在于，所述冷却通道内设置鳍式结构，所述鳍式结构为所述第一金属层和/或所述第二金属层向所述冷却通道内延伸的凸起，所述凸起用于增大基座与冷却液的接触面积，进而增大所述基座的热传导。

9.如权利要求8所述的静电夹盘，其特征在于，每条冷却通道内部的所述鳍式结构的个数至少为一个。

10.如权利要求8所述的静电夹盘，其特征在于，所述鳍式结构设置于所述冷却通道的底部。

11.如权利要求8所述的静电夹盘，其特征在于，所述鳍式结构设置于所述冷却通道的顶端。

12.如权利要求8所述的静电夹盘，其特征在于，所述鳍式结构的横截面为矩形。

13.如权利要求8所述的静电夹盘，其特征在于，所述鳍式结构的横截面为波纹状。