[实用新型]新型激发电极可变位置离子阱系统有效

专利信息
申请号: 202022353854.1 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN213459640U 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 赵高升;施月娥 申请(专利权)人: 杭州蔚领知谱检测技术有限公司
主分类号: H01J49/42 分类号: H01J49/42
代理公司: 北京中南长风知识产权代理事务所(普通合伙) 11674 代理人: 郑海
地址: 浙江省杭州市西湖区三墩镇*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 新型 激发 电极 可变 位置 离子 系统
【权利要求书】:

1.新型激发电极可变位置离子阱系统,其特征在于:包括门电极一(1)、门电极固定座一(2)、阱电极固定座一(3)、镀层极片一(4)、X激发电极一(5)、Y电极一(6)、Y电极二(7)、X激发电极二(8)、镀层极片二(9)、阱电极固定座二(10)、门电极二(11)和门电极固定座二(12),所述门电极一(1)安装于所述门电极固定座一(2)的前端,所述门电极一(1)上开有离子入口(13),所述阱电极固定座一(3)安装于所述门电极固定座一(2)的后端,所述门电极二(11)安装于所述门电极固定座二(12)的后端,所述阱电极固定座二(10)安装于所述门电极固定座二(12)的前端,所述X激发电极一(5)、Y电极一(6)、Y电极二(7)和X激发电极二(8)安装于所述阱电极固定座一(3)和阱电极固定座二(10)之间,所述X激发电极一(5)和X激发电极二(8)相对设置,所述X激发电极一(5)上开有狭缝一(15),所述X激发电极二(8)上开有狭缝二(16),所述Y电极一(6)和镀层极片二(9)相对设置,所述X激发电极一(5)和X激发电极二(8)相远离一侧分别设有镀层极片一(4)和镀层极片二(9),所述镀层极片一(4)的一侧加装有金属镀层一(14),所述镀层极片二(9)的一侧加装有金属镀层二(17)。

2.根据权利要求1所述的新型激发电极可变位置离子阱系统,其特征在于:所述门电极一(1)和门电极二(11)均采用金属材质。

3.根据权利要求1所述的新型激发电极可变位置离子阱系统,其特征在于:所述门电极固定座一(2)和门电极固定座二(12)均采用PEEK绝缘材质。

4.根据权利要求1所述的新型激发电极可变位置离子阱系统,其特征在于:所述X激发电极一(5)和X激发电极二(8)均分别与所述Y电极一(6)和Y电极二(7)之间均呈90°角设置。

5.根据权利要求1所述的新型激发电极可变位置离子阱系统,其特征在于:所述阱电极固定座一(3)和阱电极固定座二(10)均采用PEEK或者陶瓷绝缘材质。

6.根据权利要求1所述的新型激发电极可变位置离子阱系统,其特征在于:所述镀层极片一(4)和镀层极片二(9)均采用陶瓷绝缘材质。

7.根据权利要求1所述的新型激发电极可变位置离子阱系统,其特征在于:所述X激发电极一(5)、Y电极一(6)、Y电极二(7)和X激发电极二(8)均采用不锈钢金属材质。

8.根据权利要求1所述的新型激发电极可变位置离子阱系统,其特征在于:通过改变所述镀层极片一(4)和镀层极片二(9)的厚度,实现X激发电极一(5)和X激发电极二(8)相对距离大于Y电极一(6)和Y电极二(7)相对距离0.5mm至1mm。

9.根据权利要求1所述的新型激发电极可变位置离子阱系统,其特征在于:所述金属镀层一(14)和金属镀层二(17)上施加有一定的直流电压。

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