[实用新型]一种金刚石MPCVD设备用支撑架有效
申请号: | 202022367635.9 | 申请日: | 2020-10-22 |
公开(公告)号: | CN214003918U | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
发明(设计)人: | 满卫东;龚闯;朱长征;吴剑波;杨春梅 | 申请(专利权)人: | 上海征世科技股份有限公司 |
主分类号: | B66F7/06 | 分类号: | B66F7/06;B66F7/28;B08B1/02 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 周琼 |
地址: | 201799 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金刚石 mpcvd 备用 支撑架 | ||
本实用新型提供一种金刚石MPCVD设备用支撑架,涉及金刚石加工技术领域,包括底座,所述底座的顶面设置有升降装置,所述底座的底面设置有移动装置,所述升降装置包括马达、第一移动块、第二移动块和立板,所述马达的输出端转动连接有螺纹杆,所述第一移动块的内侧转动连接有第一支架,所述第二移动块的内侧转动连接有第二支架,所述第一支架与第二支架的顶端均固定安装有放置台。通过设置升降装置,以上简单方便的起到了调节放置台高度的功能,通过调节放置台高度,即可调节放置台上金刚石MPCVD设备的高度,在实际使用,可以快捷的调节金刚石MPCVD设备的高度,在车间清洁地面时,可以方便的将金刚石MPCVD设备进行抬升清理,利于实际的使用。
技术领域
本实用新型涉及金刚石加工技术领域,尤其涉及一种金刚石MPCVD设备用支撑架。
背景技术
目前制备金刚石薄膜制备方法主要有化学气相沉积(CVD)和高温高压合成两种方法。其中金刚石薄膜的CVD法又主要分为微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)和热辅助化学气相沉积(HFCVD)两种。而金刚石MPCVD设备在实际使用时,往往需要支撑架对其进行支撑,以方便后续移动和维护金刚石MPCVD设备。
目前现有的金刚石MPCVD设备用支撑架,在金刚石MPCVD设备的使用过程中难以完成升降的操作,使得实际操作时,不能够很好的适应工作人员的升降需求,使得工作人员需要费力的手动抬起金刚石MPCVD设备,降低了工作人员的工作效率。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种金刚石MPCVD设备用支撑架。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:一种金刚石MPCVD设备用支撑架,包括底座,所述底座的顶面设置有升降装置,所述底座的底面设置有移动装置。
所述升降装置包括马达、第一移动块、第二移动块和立板,所述马达的输出端转动连接有螺纹杆,所述第一移动块的内侧转动连接有第一支架,所述第二移动块的内侧转动连接有第二支架,所述第一支架与第二支架的顶端均固定安装有放置台,所述立板的正面开设有滑槽,所述滑槽的内壁滑动安装有滑块。
优选的,所述移动装置包括万向轮,所述万向轮的正面固定安装有延伸块,所述延伸块远离万向轮的一侧固定安装有连接块,所述连接块的侧面贯穿设置有推拉杆,所述推拉杆的一端固定安装有刮板,所述推拉杆的另一端固定安装有矩形块,所述矩形块的侧面固定安装有弹簧。
优选的,所述移动装置的数量总共为四组,所述移动装置均匀分布于底座的底面四角。
优选的,所述马达与立板均固定安装在底座的顶面,所述第一移动块和第二移动块均与底座的顶面之间滑动连接。
优选的,所述第一移动块的内部开设有正螺纹,所述第二移动块的内部开设有反螺纹,所述滑块与放置台之间固定连接。
优选的,所述万向轮与底座之间转动连接,所述弹簧远离矩形块的一端与连接块之间固定连接。
与现有技术相比,本实用新型的优点和积极效果在于,
1、本实用新型中,通过设置升降装置,在马达、第一移动块、第二移动块、立板、螺纹杆、第一支架、第二支架、放置台、滑槽和滑块之间的相互配合下,实际使用时,将金刚石MPCVD设备放在放置台上,随后打开马达,此时马达带动螺纹杆转动,并且由于第一移动块和第二移动块内的螺纹相反,螺纹杆带动第一移动块向右运动,带动第二移动块向左运动,随后第一移动块和第二移动块带动第一支架与第二支架运动,第一支架与第二支架带动放置台运动,此时放置台通过滑块在滑槽内滑动,当放置台到指定位置后,即可完成放置台的高度设置,以上简单方便的起到了调节放置台高度的功能,通过调节放置台高度,即可调节放置台上金刚石MPCVD设备的高度,在实际使用,可以快捷的调节金刚石MPCVD设备的高度,在车间清洁地面时,可以方便的将金刚石MPCVD设备进行抬升清理,利于实际的使用。
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