[实用新型]一种防打火靶材组件

说明书

本实用新型提供了一种防打火靶材组件，所述防打火靶材组件包括层叠设置的靶材与背板；所述靶材与背板的结合部位设置有喷砂区；所述喷砂区至背板的边缘依次设置有密封槽和排气槽；所述喷砂区、密封槽与排气槽呈并列排布。本实用新型提供的防打火靶材组件避免了靶材组件在磁控溅射过程中的打火现象，提升了镀膜质量的同时不额外增加操作繁琐度。

技术领域

本实用新型属于磁控溅射技术领域，涉及一种靶材组件，尤其涉及一种防打火靶材组件。

背景技术

磁控溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，这种技术利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集形成高速度能的离子束流，轰击靶材表面，离子和靶材表面原子发生动能交换，使得靶材原子离开靶材表面并沉积在基底表面，从而形成沉积薄膜。

在实际生产过程中，由于靶材的强度不一，往往需要将符合性能要求的靶材和具有一定强度的背板结合制成靶材组件，然后安装在溅射机台上，进而在磁场或电场作用下有效地进行溅射控制。在溅射过程中，背板可以为靶材提供支撑作用，并具有传导热量的功效。随着靶材的溅射损耗，一般通过增加镀膜功率的方式维持原有的镀膜速率，以使膜层的厚度保持均匀。然而增加镀膜功率很容易导致背板打火，从而影响膜层的溅射质量。

CN 111705301A公开了一种防变形钛靶材，所述靶材包括背板以及与所述背板连接的溅射部，所述溅射部尺寸小于所述背板的尺寸，所述背板边缘设置有至少两个安装台阶孔，所述安装台阶孔包括沉孔以及底孔，所述沉孔的深度与所述底孔的深度比例为1.25-1.55。所述靶材在使用后变形性小，易拆卸，且使用过程中无打火现象。由于所述发明只是通过增加背板底部边缘喷砂区的粗糙度来避免打火现象，在长时间使用过程中，靶材边缘难免会沉积一些反溅射物质掩盖部分喷砂区，进而无法继续避免靶材组件打火现象。

CN 108611616A公开了一种线圈机构及磁控溅射装置，所述线圈机构设置于磁控溅射装置内的靶材背面，从而为磁控溅射装置提供磁场环境。在镀膜过程中，通过调整线圈机构通入的电流大小来改变磁场强度，以调整溅射速率，避免了靶材打火。然而所述发明需要在靶材背面引入额外装置，降低了靶材利用率，且线圈机构在通电过程中的发热现象会导致靶材变形，影响靶材的使用寿命。

CN 202989274U公开了一种磁控溅射平面靶材屏蔽罩，包括靶背板、屏蔽罩、四周侧挡板、上方盖板与固定螺钉。所述实用新型可减小在安装及实际镀膜加热过程中的形变，使其与靶材基座之间的距离保持稳定，减少阴阳极之间因距离过近而产生打火现象的发生频率。所述实用新型在传统靶材组件的周围增加了屏蔽罩，虽降低了打火频率，但增加了装卸繁琐度，不利于提高生产效率。

由此可见，如何避免靶材组件的打火现象，提升镀膜质量的同时不额外增加操作繁琐度，成为了目前迫切需要解决的技术问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种防打火靶材组件，所述防打火靶材组件避免了靶材组件在磁控溅射过程中的打火现象，提升了镀膜质量的同时不额外增加操作繁琐度。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供一种防打火靶材组件，所述防打火靶材组件包括层叠设置的靶材与背板。

所述靶材与背板的结合部位设置有喷砂区。

所述喷砂区至背板的边缘依次设置有密封槽和排气槽。

所述喷砂区、密封槽与排气槽呈并列排布。