[实用新型]一种便于移动的化学气相沉淀装置有效
申请号: | 202022389338.4 | 申请日: | 2020-10-24 |
公开(公告)号: | CN213357742U | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 牛新海;李志坤 | 申请(专利权)人: | 青岛微弘设备技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/44 |
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地址: | 266000 山东省青岛市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 便于 移动 化学 沉淀 装置 | ||
本实用新型公开了一种便于移动的化学气相沉淀装置,包括沉淀筒、气体均布件、晶圆布置件;沉淀筒的底部设置有底座;底座的底部设置有四个滚轮;底座的四周各设置有一个支撑螺柱;底座的四周各设置有一个贯穿底座顶面、底面的螺纹孔;支撑螺柱与螺纹孔进行螺纹连接;支撑螺柱的底端与支撑座进行转动连接。本实用新型中设置有滚轮和支撑螺柱,当需要移动本申请沉淀装置时,分别旋转四个支撑螺柱,使支撑螺柱向上移动,直至滚轮接触地面,通过滚轮移动本申请沉淀装置;当进行沉淀需要固定本申请沉淀装置时,反向旋转支撑螺柱,使支撑螺柱向下移动,直至支撑座接触支撑面起到支撑作用;因此,本申请沉淀装置既便于移动,又能实现支撑固定作用。
技术领域
本实用新型属于气相沉淀设备技术领域,具体涉及一种便于移动的化学气相沉淀装置。
背景技术
金属有机化合物化学气相沉淀是在气相外延生长的基础上发展起来的一种新型气相外延生产技术。目前,一般的气相沉淀设备包括加热系统、冷却系统、气体运输系统、气相沉淀系统等,其中在气相沉淀系统中,经过前面一系列处理之后的反应气体进入到沉淀腔内,并扩散至沉淀腔中的晶圆表面,在晶圆表面附近的反应区形成薄膜。通常情况下,气体沉淀系统的沉淀腔放置在气相沉淀设备的工作间内,其中在与其他系统进行装配连接或者转换工作间时,需要移动相应的沉淀腔。
目前,对于沉淀腔的移动,大都采用人工搬运,耗费的劳动强度较大。
因此,亟需设计一种便于移动的化学气相沉淀装置。
实用新型内容
本实用新型的目的是为克服上述现有技术的不足,提供一种便于移动的化学气相沉淀装置。
为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种便于移动的化学气相沉淀装置,包括沉淀筒、气体均布件、晶圆布置件;
所述沉淀筒呈两端封堵的圆筒状结构;
所述气体均布件呈圆筒状结构,所述气体均布件的圆筒侧壁内设置有沿圆筒轴向方向延伸的环形均布腔;所述气体均布件的圆筒内侧壁上均匀设置有若干与环形均布腔相连通的气体均布孔;所述气体均布件的圆筒外侧壁上设置有与环形均布腔相连通的气体入口管;
所述晶圆布置件呈圆柱状结构,所述晶圆布置件的侧壁上均匀设置有若干用来安装晶圆的夹筒;
所述夹筒包括上下对称设置的呈弧形结构的上夹持臂和呈弧形结构的下夹持臂;
所述上夹持臂固定设置在晶圆布置件的外侧壁上,所述上夹持臂的中心轴线与晶圆布置件的中心轴线垂直相交;
所述下夹持臂与晶圆布置件进行上下方向的滑动连接,所述下夹持臂的中心轴线与晶圆布置件的中心轴线垂直相交;所述下夹持臂的下壁面上连接有调节丝杆;
所述下夹持臂下方的晶圆布置件上设置有控制座,所述控制座内转动连接有调节螺母;
所述调节丝杆与调节螺母进行螺纹连接;
所述气体均布件同轴设置在沉淀筒内部,所述沉淀筒的侧壁上设置有供气体入口管穿过的通孔;
所述晶圆布置件同轴设置在气体均布件内部,所述晶圆布置件的底端与沉淀筒的内侧底端固定连接;
所述沉淀筒的底部设置有底座;所述底座的底部设置有四个滚轮;
所述底座的四周各设置有一个支撑螺柱;
所述底座的四周各设置有一个贯穿底座顶面、底面的螺纹孔;所述支撑螺柱与螺纹孔进行螺纹连接;
所述支撑螺柱的底端与支撑座通过轴承进行转动连接。
优选的,所述晶圆布置件上沿圆周方向设置有若干条沿轴向延伸的限位滑槽;
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的