[实用新型]一种InAlGaN超晶格结构及具有其的发光二极管芯片有效

专利信息
申请号: 202022398654.8 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN214280003U 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 孟锡俊;崔志强;贾晓龙 申请(专利权)人: 山西中科潞安紫外光电科技有限公司
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32;H01L33/06;H01L33/02;H01L33/00
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 张宏伟
地址: 046000 山西*** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 一种 inalgan 晶格 结构 具有 发光二极管 芯片
【权利要求书】:

1.一种InAlGaN超晶格结构,其特征在于,该InAlGaN超晶格结构为多周期循环结构,每一个周期都包括InGaN阱层、位于所述InGaN阱层上的InAlGaN盖层、位于所述InAlGaN盖层上的GaN盖层和位于所述GaN盖层上的n型InAlGaN垒层。

2.根据权利要求1所述的InAlGaN超晶格结构,其特征在于,该InAlGaN超晶格结构为2-20个周期循环结构。

3.一种发光二极管芯片,其特征在于,所述芯片包括发光二极管外延结构、正电极和负电极,所述发光二极管外延结构具有如权利要求1-2中任一项所述的InAlGaN超晶格结构。

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