[实用新型]离子源及离子刻蚀设备

权利要求书

1.一种离子源，包括栅栏、射频电源线圈、石英腔、气流导向结构和用于调节离子源产生的离子流密度的可调磁场装置，其特征在于：所述可调磁场装置包括至少三个不同轴的电磁铁，所有电磁铁均连接有调节角度的驱动装置，所有电磁铁之间相互独立。

2.根据权利要求1所述的离子源，其特征在于：所述可调磁场装置包括支撑架，所有电磁铁布置于支撑架上，所述驱动装置连接支撑架和电磁铁。

3.根据权利要求2所述的离子源，其特征在于：所述支撑架包括上撑板和下撑板，所述上撑板和下撑板上对应电磁铁处均开设有安装口，且所述下撑板对应安装口处设置有支撑环，电磁铁搭载于支撑环上，上撑板的安装口大于电磁铁的外径。

4.根据权利要求3所述的离子源，其特征在于：所述驱动装置包括弹簧片和第一调节螺钉，弹簧片置于上撑板的安装口处挤压电磁铁的圆周面，所述上撑板对应弹簧片的相对侧设置有连通安装口与外界的第一螺纹孔，第一调节螺钉穿入第一螺纹孔挤压电磁铁的圆周面。

5.根据权利要求4所述的离子源，其特征在于：所述下撑板对应支撑环处开设有第二螺纹孔，所述第二螺纹孔内穿设有第二调节螺钉，第二调节螺钉挤压电磁铁的底面。

6.根据权利要求5所述的离子源，其特征在于：所述安装口在支撑架沿圆周均匀分布，且上撑板的安装口为腰型，其长度方向沿上撑板的径向延伸。

7.根据权利要求6所述的离子源，其特征在于：所述电磁铁包括线圈架和线圈，线圈处于线圈架内，线圈外接电源。

8.一种离子刻蚀设备，包括基片台和旋转装置，基片台连接旋转装置，其特征在于：还包括权利要求7所述的离子源，离子源的等离子体束流朝向基片台。