[实用新型]一种成像模组

说明书

本实用新型实施例涉及超构表面之中的超构透镜技术领域，特别是涉及一种成像模组，包括衬底、超构透镜、感光芯片和光学胶。超构透镜包括四种超构透镜单元，其电介质基底设置于衬底，包括第一超构透镜单元、第二超构透镜单元、第三超构透镜单元和第四超构透镜单元，第一超构透镜单元与第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度，第三超构透镜单元，与第一超构透镜单元和第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为四十五度，第四超构透镜单元可供左圆或者右圆偏振光通过。感光芯片设置于超构透镜。光学胶设置于超构透镜与感光芯片之间。成像模组的四种超构透镜单元分别对四种偏振光敏感，成像模组可同时进行四种偏振成像。

技术领域

本实用新型实施例涉及超构表面之中的超构透镜技术领域，特别是涉及一种成像模组。

背景技术

超构透镜单元是近些年来一种新型的基于广义斯涅耳定律的平面光学调控元件，由亚波长尺寸和间隔的结构在二维平面内排列而成。通过合理地设计结构的形状、尺寸、位置和方向，超构透镜单元可以实现光的相位、振幅、偏振和频率所有参量的任意调控。利用超构透镜单元灵活的结构设计和新颖的机制，可将体积大、功能单一的传统光学透镜重新设计成轻薄化、平面化且多功能集成的超构透镜，具有广阔的应用前景。

本实用新型的发明人在实现本实用新型的过程中，发现：目前，超构透镜应用于成像系统，不能在复色光下同时实现四种偏振的偏振成像和光场成像。

实用新型内容

鉴于上述问题，本实用新型实施例提供了一种成像模组，克服了上述问题或者至少部分地解决了上述问题。

根据本实用新型实施例的一个方面，提供了一种成像模组，包括：衬底；超构透镜，包括四种超构透镜单元，四种所述超构透镜单元的电介质基底均设置于所述衬底，四种所述超构透镜单元分别为第一超构透镜单元、第二超构透镜单元、第三超构透镜单元和第四超构透镜单元，所述第一超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度与所述第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度，所述第三超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度，与，所述第一超构透镜单元和所述第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值均为四十五度，所述第四超构透镜单元可供左圆偏振光或者右圆偏振光通过；感光芯片，设置于所述超构透镜，且所述感光芯片远离四种所述超构透镜单元的电介质基底；光学胶，设置于所述超构透镜与所述感光芯片之间，用于将所述超构透镜与所述感光芯片进行粘合。

在一种可选的方式中，所述第一超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度为零度，所述第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度为九十度，所述第三超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度为四十五度。

在一种可选的方式中，四种所述超构透镜单元以2x2的的排列方式设置于所述衬底。

在一种可选的方式中，四种所述超构透镜单元的形状均包括圆形、四边形和六边形。

在一种可选的方式中，所述超构透镜的数量为N²个，N²个所述超构透镜以NxN的排列方式设置于所述衬底以进行偏振成像和光场成像，其中，N为任意正整数。

在一种可选的方式中，所述感光芯片包括电路板和感光元件，所述感光元件设置于所述电路板，所述光学胶设置于所述感光元件。

在一种可选的方式中，所述成像模组还包括导电层，所述导电层位于所述衬底与所述超构透镜之间。

在一种可选的方式中，所述超构透镜单元的电介质纳米柱的结构满足400到1500纳米波长的复色光的消色差，其中，所述电介质纳米柱的结构包括高度、长轴尺寸、短轴尺寸和面内角度。

在一种可选的方式中，所述超构透镜单元的电介质纳米柱的数量为多个，每一所述电介质纳米柱的所述高度的范围均为200nm至1500nm。