[实用新型]铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚有效
申请号: | 202022410842.8 | 申请日: | 2020-10-27 |
公开(公告)号: | CN213804070U | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 高文秀;赵百通 | 申请(专利权)人: | 宜兴市昱元能源装备技术开发有限公司 |
主分类号: | C30B29/06 | 分类号: | C30B29/06;C30B28/06;C30B11/00 |
代理公司: | 无锡智麦知识产权代理事务所(普通合伙) 32492 | 代理人: | 宋春荣 |
地址: | 214000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铸锭 单晶硅 多晶 硅中可 重复 利用 石墨 坩埚 | ||
1.一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚,其特征在于:
包括:
底板(1),所述底板(1)包括一上侧面;
两个第一竖板(4),两个所述第一竖板(4)设于所述上侧面的两个相对侧边上;
两个第二竖板(6),两个所述第二竖板(6)设于所述上侧面的另外两个相对侧边上;
若干个冷却构件,设于所述第一竖板(4)与所述底板(1)之间的直角外部、设于所述第二竖板(6)与所述底板(1)之间的直角外部、设于所述第一竖板(4)与所述第二竖板(6)之间的直角外部。
2.根据权利要求1所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚,其特征在于:所述底板(1)的所述上侧面四周开设有下沉式四周槽(2)。
3.根据权利要求2所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚,其特征在于:所述四周槽(2)包括两个第一直槽(201),两个所述第一直槽(201)设于所述上侧面的两个相对侧边上,两个所述第一竖板(4)设于两个所述第一直槽(201)内;所述四周槽(2)还包括两个第二直槽(202),两个所述第二直槽(202)设于所述上侧面的另外两个相对侧边上,且与两个所述第一直槽(201)相互连通设置,两个所述第二竖板(6)设于设于两个所述第二直槽(202)内。
4.根据权利要求3所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚,其特征在于:所述第一直槽(201)与所述第二直槽(202)的连接处位于所述第二直槽(202)的两个端点之间且靠近其中一个端点,使得所述第一竖板(4)位于两个所述第二竖板(6)之间。
5.根据权利要求4所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚,其特征在于:所述底板(1)的侧面开设有吊具孔(3)。
6.根据权利要求4所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚,其特征在于:所述第二竖板(6)内侧面的两端均开设有竖直方向的竖槽(7),所述竖槽(7)的下端与所述第一直槽(201)相对接,所述第一竖板(4)伸进所述竖槽(7)内。
7.根据权利要求6所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚,其特征在于:所述第一竖板(4)的两个端面开有第一固定孔(5),所述第二竖板(6)上开有第二固定孔(8),所述第一竖板(4)通过所述第一固定孔(5)、所述第二固定孔(8)与固定件(9)固定连接所述第二竖板(6)。
8.根据权利要求6所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚,其特征在于:所述冷却构件包括4个竖向冷却板(10)和4个横向冷却板(11);所述竖向冷却板(10)的一竖侧面与所述第二竖板(6)竖向端面接触,该侧面同时通过第一垫块(14)与所述第一竖板(4)接触;所述横向冷却板(11)的一横侧面与所述底板(1)横向端面接触或者与所述第二竖板(6)横向端面接触,同时通过第二垫块(15)与所述第二竖板(6)接触。
9.根据权利要求8所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚,其特征在于:所述竖向冷却板(10)和所述横向冷却板(11)上均开有冷源进口(12)和冷源出口(13)。
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