[实用新型]清洗装置和饮品制备系统

权利要求书

1.一种清洗装置，其特征在于，包括：

基座；和

至少一个清洗部件，所述清洗部件设于所述基座；

其中，所述清洗部件包括：

放置部，所述放置部设在所述基座上，并用于放置容纳件；

传感器，所述传感器设在所述基座上，通过所述传感器检测所述放置部上是否放置有容纳件；

喷头，所述喷头设在所述放置部上且适于与外部清洗介质源连接，若通过所述传感器检测到所述放置部上放置有容纳件，所述喷头向所述容纳件喷射清洗介质以清洗所述容纳件。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述放置部包括贯通槽和支撑件，所述贯通槽设于所述基座，所述支撑件安装于所述贯通槽内。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑件设有通孔和漏水孔，介质主管穿过所述通孔，所述喷头与所述介质主管的第一端连接，所述介质主管的第二端与所述外部清洗介质源连通。

4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑件的内壁上设有从所述支撑件的上端向所述支撑件底面延伸的缺口。

5.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑件还包括支杆，所述支杆的下端与所述支撑件的底面连接。

6.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，还包括用于烘干放置部上的容纳件的烘干部件，所述介质主管的第二端还与所述烘干部件连通。

7.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括紫外线灯，所述紫外线灯设在所述基座下方，用于对放置到所述放置部上的容纳件进行杀菌消毒。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的清洗装置，其特征在于，还包括传递机构，所述传感器为光电传感器，放置到所述放置部上的容纳件通过重力带动所述传递机构移动以触发所述光电传感器发送信号，所述信号用以触发所述喷头向所述容纳件内喷射清洗介质以清洗所述容纳件。

9.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括收集槽，所述收集槽设在所述基座下方，用于收集清洗过杯子的清洗介质废液。

10.一种饮品制备系统，其特征在于，包括根据权利要求1-9中任一项所述的清洗装置。