[实用新型]一种真空灭弧室静端保护装置及真空灭弧室有效

专利信息
申请号: 202022417425.6 申请日: 2020-10-27
公开(公告)号: CN213340205U 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 李拉练;李伟青;孙智生 申请(专利权)人: 陕西宝光真空电器股份有限公司
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 721016 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 灭弧室静端 保护装置 灭弧室
【权利要求书】:

1.一种真空灭弧室静端保护装置,真空灭弧室(100)包括静端结构件(1001),静端结构件(1001)具有电接触面(1002)及设置于所述电接触面(1002)的安装孔(1003),其特征在于,所述真空灭弧室静端保护装置包括保护盖(1)及与所述保护盖(1)固接的安装柱(2),所述安装柱(2)与所述安装孔(1003)插接,所述保护盖(1)沿所述安装孔(1003)轴线的方向遮盖所述电接触面(1002),所述保护盖(1)与所述电接触面(1002)间隔设置。

2.根据权利要求1所述的真空灭弧室静端保护装置,其特征在于,所述保护盖(1)与所述安装柱(2)的连接处设置有斜面(3),所述斜面(3)与所述安装孔(1003)边缘抵接。

3.根据权利要求1所述的真空灭弧室静端保护装置,其特征在于,所述安装柱(2)远离所述保护盖(1)的一端设置有倒角。

4.根据权利要求3所述的真空灭弧室静端保护装置,其特征在于,所述安装孔(1003)内周壁设置为内螺纹,所述安装柱(2)外周壁设置为外螺纹,所述安装柱(2)与所述安装孔(1003)螺接。

5.根据权利要求1所述的真空灭弧室静端保护装置,其特征在于,所述保护盖(1)的外径大于所述电接触面(1002)的外径。

6.根据权利要求1所述的真空灭弧室静端保护装置,其特征在于,所述保护盖(1)包括顶壁(11)、底壁(12)和侧壁(13),所述顶壁(11)和所述底壁(12)与所述侧壁(13)的连接处均设置为倒角。

7.根据权利要求6所述的真空灭弧室静端保护装置,其特征在于,所述侧壁(13)设置为滚花。

8.根据权利要求1所述的真空灭弧室静端保护装置,其特征在于,所述真空灭弧室静端保护装置一体成型制成。

9.根据权利要求1所述的真空灭弧室静端保护装置,其特征在于,真空灭弧室静端保护装置由导电材料制成。

10.一种真空灭弧室,其特征在于,包括权利要求1-9任一项所述的真空灭弧室静端保护装置。

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