[实用新型]基板承载装置

权利要求书

1.一种基板承载装置，其特征在于，用于承载至少一基板并包含：

至少一碟盘，具有一上方开放的基板槽，以供该基板以反应面朝下的方式置入，该基板槽下方设有一反应口以供该反应面裸露；

一下大盘，具有至少一个上方开放的碟盘槽，以供该碟盘置入，该碟盘槽下方设有一底口以供该反应面裸露；以及

一上大盘，遮盖于该下大盘的上方并将该碟盘槽上方封闭。

2.如权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，该碟盘槽设有一环槽沟，该碟盘设有一入于该环槽沟的对接部，该环槽沟内设有一环状气浮通道；该环状气浮通道以切线方向衔接一入气引道，以引入气浮气体施力于该对接部，使该碟盘悬浮及旋转；该环槽沟衔接于一第一泄出口，以供该气浮气体排出。

3.如权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于，以该气浮气体的引入流量大小控制该碟盘的悬浮高度。

4.如权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于，该基板上方与该上大盘之间保持一受热间距，该受热间距至少为该基板生成薄膜过程产生翘曲规模的20倍。

5.如权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于，该上大盘设有一第二泄出口与该第一泄出口衔接。

6.如权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，该基板槽内壁边沿设有若干承载指以承托该基板的边沿，该承载指的顶面朝向该基板槽中心倾斜。

7.如权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，该上大盘对应于该碟盘上方的位置设置一曲面传导区。