[实用新型]靶材背板

说明书

本实用新型公开了一种靶材背板，包括：背板主体，正面设置有靶材，背面设置有流道，所述流道具有进液口和出液口，所述流道可供冷却液流动；盖板，设置于所述背板主体的背面并遮盖所述流道；密封圈，设置于所述盖板与所述流道之间，用于密封所述流道。使用时，可将靶材设置于背板主体的正面，使冷却液可从位于背板主体背面的流道进液口流入，从出液口流出，冷却液可将位于背板主体正面的靶材的热量带走，从而降低靶材在溅射镀膜过程中的温度，进而可提升镀膜质量。此外，设置于盖板与流道之间的密封圈可对流道起到密封作用。

技术领域

本实用新型涉及溅射镀膜领域，特别涉及一种靶材背板。

背景技术

靶材是一种具有高附加价值的特种电子材料，最主要使用在微电子，显示器，存储器以及光学镀膜等产业上。

溅射镀膜是利用离子源产生的离子轰击在靶材表面，使靶原子离开靶被溅射出来，随后沉积在基体表面的过程。溅射镀膜具有以下显著的优点：膜层的结合力强，膜厚稳定性较好，而且膜层厚度不会变化，膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。

目前，在进行靶材溅射镀膜时，高速度流的离子束流轰击靶材表面，会使靶材产生大量的热量，从而使靶材温度升高，会影响镀膜质量。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种靶材背板，能够降低靶材在溅射镀膜过程中的温度，提升镀膜质量。

根据本实用新型实施例的一种靶材背板，包括：背板主体，正面设置有靶材，背面设置有流道，所述流道具有进液口和出液口，所述流道可供冷却液流动；盖板，设置于所述背板主体的背面并遮盖所述流道；密封圈，设置于所述盖板与所述流道之间，用于密封所述流道。

至少具有如下有益效果：使用时，可将靶材设置于背板主体的正面，使冷却液可从位于背板主体背面的流道进液口流入，从出液口流出，冷却液可将位于背板主体正面的靶材的热量带走，从而降低靶材在溅射镀膜过程中的温度，进而可提升镀膜质量。此外，设置于盖板与流道之间的密封圈可对流道起到密封作用。

根据本实用新型的一些实施例，所述流道呈U型，所述进液口和所述出液口位于所述背板主体的同一端。

根据本实用新型的一些实施例，所述进液口的宽度及所述出液口的宽度均沿所述背板主体的长度方向由所述背板主体的内部向所述背板主体的外部逐渐减小。

根据本实用新型的一些实施例，所述盖板呈与所述流道相契合的U型，所述盖板在与所述进液口和所述出液口相对应的区域分别开设有进液口避让槽及出液口避让槽，所述进液口避让槽及所述出液口避让槽的宽度均小于所述流道的宽度。

根据本实用新型的一些实施例，所述背板主体与所述盖板在对应于所述进液口避让槽及所述出液口避让槽的位置均设置有凹陷部，所述凹陷部的尺寸大于所述进液口避让槽的尺寸及所述出液口避让槽的尺寸。

根据本实用新型的一些实施例，呈U型的所述流道的两条边线的中心距为80mm至90mm。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本实用新型实施例的结构示意图；

图2为图1中A处的局部放大图；

图3为本实用新型实施例中的背板主体结构示意图；

图4为图3中B-B向的剖视图；

图5为本实用新型实施例中的盖板结构示意图。