[实用新型]一种用于MPCVD设备的真空生成装置有效
| 申请号： | 202022457428.2 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN213623261U | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 王凯;秦静 | 申请（专利权）人： | 美若科技有限公司 |
| 主分类号： | B67C9/00 | 分类号： | B67C9/00 |
| 代理公司： | 济南文衡创服知识产权代理事务所(普通合伙) 37323 | 代理人： | 刘真 |
| 地址： | 276800 山东省日*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 mpcvd 设备 真空 生成 装置 | ||
1.一种用于MPCVD设备的真空生成装置，包括真空发生器(1)和连接管(2)，其特征在于：所述真空发生器(1)一侧设置有真空吸入管(3)，所述连接管(2)设置在所述真空吸入管(3)一端，所述连接管(2)一端熔接有螺纹环(4)，所述真空吸入管(3)的内壁一端设置有连接螺槽，所述螺纹环(4)与所述连接螺槽相啮合，所述真空发生器(1)和所述连接管(2)上均熔接有气压检测筒(5)。
2.根据权利要求1所述的一种用于MPCVD设备的真空生成装置，其特征在于：所述螺纹环(4)一端粘合有密封环(6)，所述连接螺槽的内壁上设置有环形槽。
3.根据权利要求2所述的一种用于MPCVD设备的真空生成装置，其特征在于：所述密封环(6)卡设在所述环形内侧，所述环形槽的内壁粘合有密封囊(7)。
4.根据权利要求3所述的一种用于MPCVD设备的真空生成装置，其特征在于：所述密封囊(7)上设置有打气头(8)，所述环形槽的内壁上设置有打气孔(9)，所述打气头(8)设置在所述打气孔(9)内。
5.根据权利要求1所述的一种用于MPCVD设备的真空生成装置，其特征在于：所述气压检测筒(5)内设置有气压槽(10)和触发腔(11)，所述气压检测筒(5)上设置有指示灯(12)和蓄电池(13)。
6.根据权利要求5所述的一种用于MPCVD设备的真空生成装置，其特征在于：所述气压槽(10)内卡设有密封块(14)，所述触发腔(11)内设置有移动片(15)，所述密封块(14)与所述移动片(15)之间熔接有联动杆(16)，所述气压槽(10)与所述触发腔(11)之间设置有通孔，所述联动杆(16)卡设在所述通孔内，所述移动片(15)上安装有电极片一(17)，所述触发腔(11)的内部上安装有电极片二(18)，所述指示灯(12)通过电线分别与所述电极片一(17)和所述蓄电池(13)连接，所述蓄电池(13)通过电线与所述电极片二(18)连接。
7.根据权利要求6所述的一种用于MPCVD设备的真空生成装置，其特征在于：所述密封块(14)与所述气压槽(10)的内壁之间熔接有弹簧(19)。
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