[实用新型]一种半导体硅单晶炉隔离阀室的阀盖装置有效

专利信息
申请号: 202022461195.3 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN213804061U 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 刘丁;弋英民;张晶;张新雨;黄伟超 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/06
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 韩玙
地址: 710048 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 硅单晶炉 隔离 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种半导体硅单晶炉隔离阀室的阀盖装置,包括阀盖板,阀盖板上设置有摆臂,摆臂的一端通过销轴与阀盖板中心位置固定,摆臂的另一端与阀板轴连接,阀盖板上还设置有进水金属波纹软管和出水金属波纹软管,进水金属波纹软管和和出水金属波纹软管通过水槽与所述阀板轴上的水槽相通,阀板轴与阀盖座通过过盈配合安装在一起。本实用新型解决了现有技术中存在的半导体单晶炉阀盖由于高温易变形进而影响主炉室和副炉室的隔离效果的问题。

技术领域

本实用新型属于半导体设备技术领域,具体涉及一种半导体硅单晶炉隔离阀室的阀盖装置。

背景技术

单晶炉是机电一体化的集成电路材料制备的专用设备,是一种在惰性气体环境中,用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生长无位错单晶的设备。

直拉法半导体单晶炉中的真空腔室主要包括主炉室、炉盖、隔离阀室和副炉室,主炉室用于安装石墨加热系统和生长单晶,副炉室用于存放生长完成的单晶,而隔离阀室主要用于主炉室和副炉室的隔离,实现主炉室和副炉室的不同工作环境。当阀盖关闭后就可以实现两个腔室的不同工作环境,由于单晶炉在工作时处于高温环境状态下,就会造成阀盖高温变形进而影响主炉室和副炉室的隔离效果。因此,单晶炉隔离阀室的阀盖装置是生长半导体硅单晶的重要部件之一。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种半导体硅单晶炉隔离阀室的阀盖装置,解决了现有技术中存在的半导体单晶炉阀盖由于高温易变形进而影响主炉室和副炉室的隔离效果的问题。

本实用新型所采用的技术方案是,一种半导体硅单晶炉隔离阀室的阀盖装置,包括阀盖板,阀盖板上设置有摆臂,摆臂的一端通过销轴与阀盖板中心位置固定,摆臂的另一端与阀板轴连接,阀盖板上还设置有进水金属波纹软管和出水金属波纹软管,进水金属波纹软管和和出水金属波纹软管通过水槽与所述阀板轴上的水槽相通,阀板轴与阀盖座通过过盈配合安装在一起。

本实用新型的特点还在于,

阀盖板内部设置有环形相互连通的水槽,水槽的进水口与出水口均设置在阀盖板上表面且远离阀板轴位置;在阀盖板的进出水口上设置连通所述水槽的进出水接头;阀板轴上设置有一长一短两个水孔分别为进出水孔,在进出水孔靠近阀板轴末端的位置上在阀板轴的外圆上设置有环形槽并在环形槽内设置有一个与进出水孔相通的水孔,阀盖座的内孔上设置有两处环形槽,在环形槽内设置有水孔,水孔的外侧设置连通该环形槽的进出水接头,阀盖座与阀板轴上的环形水槽对正在一起。

阀盖座的环形水槽两侧端面通过密封圈A和密封圈B进行密封保证冷却水通过阀板轴的端面进出后到达环形槽后从阀盖座上设置的进出水接头通过。

密封圈B外侧还设置有挡圈,圆螺母A和圆螺母B用于压紧挡圈与阀盖座。

进水金属波纹软管两端设置有活套螺母,进水金属波纹软管的一端通过密封垫A与阀盖板上设置的进水接头相连接,进水金属波纹软管的另一端通过密封垫B与阀盖座上设置的进水接头相连接;所述出水金属波纹软管两端设置有活套螺母,出水金属波纹软管的一端通过密封垫A与阀盖板上设置的出水接头相连接,出水金属波纹软管的另一端通过密封垫B与阀盖座上设置的出水接头相连接。

阀盖板中心位置安装有支座A和支座B,支座A和支座B用于安装所述销轴,摆臂的一端通过销轴与支座A和支座B相连接。

进水金属波纹软管和出水金属波纹软管沿阀盖板圆周对称设置。

阀板轴与阀盖座之间通过锁紧螺钉锁紧,锁紧螺钉和阀板轴之间设置有胶垫。

本实用新型的有益效果是,一种半导体硅单晶炉隔离阀室的阀盖装置,提供给阀盖装置的冷却水源向阀板轴端面的进水孔注入冷却水,冷却水依次经过阀板轴的环形槽、阀盖座的环形槽、进水金属波纹软管、阀盖板的内部环形相互连通的水槽、出水金属波纹软管、阀盖座的环形槽、阀板轴的出水孔,然后将冷却水排出,即能够通过冷却水带走阀盖板内的热量实现对阀盖板和阀板轴的冷却。

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