[实用新型]曝光机掩模清洗机的气流改善装置

说明书

本实用新型涉及一种曝光机掩模清洗机的气流改善装置，包括清洁机本体和设置于清洁机本体上的排放装置，清洁机本体设置有清洗室和供气装置，供气装置用于向清洗室输送气流，并使气流对放置于清洗室内的工件进行清洁处理，排放装置包括排气管道和风扇，排气管道与清洗室连通，风扇能够驱动清洗室内的气流进入排气管道。通过在清洁机本体上设置排气管道和风扇，使清洗室内对工件进行清洁处理后的气流能够通过排气管道及时排出，避免随气流漂浮的异物沉积在清洗室内，或者再次附着在工件上，有利于提高对工件的清洁质量。同时，风扇为气流的流动提供驱动力，使气流只能从清洗室通过排气管道向外部流动，可有效避免气流回流，进一步保证对工件的清洁质量。

技术领域

本实用新型涉及洗涤设备技术领域，尤其涉及一种曝光机掩模清洗机的气流改善装置。

背景技术

在光学元件的生产过程中，需要对光学元件进行清洁处理，以保证其生产质量。清洁设备为掩模清洗机(Mask Cleaner)。如图1所示，提供一个需进行清洁处理的工件100，工件100包括一个支撑板101，支撑板101上设置有限位件102，光学玻璃片200通过限位件102安装固定在支撑板101上。支撑板101还设置有镂空部，以使支撑板101能够对光学玻璃片200进行遮光或者透光，以满足光学玻璃片200的制作工艺需要。为保证光学玻璃片200的表面清洁度，需要利用清洁机对其进行清洁处理。现有的清洁机设置有清洗室，支撑板101和光学玻璃片200放置于清洗室内，并向清洗室内通入气流，气流在清洗室内产生扰动，以使附着在光学玻璃片200上的粉尘、颗粒型杂质等异物脱离光学玻璃片200的表面，异物随气流流动，实现对光学玻璃片200的清洁处理。该方式由于异物随气流流动，在清洁处理后异物会在清洗室内沉积，在后续的清洁处理中异物容易重新回到光学玻璃片200或者支撑板101上，进而影响清洁处理的质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种曝光机掩模清洗机的气流改善装置，其能够将工件上的异物及时排出，保证对工件的清洁处理质量。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

提供的一种曝光机掩模清洗机的气流改善装置，包括清洁机本体和设置于所述清洁机本体上的排放装置，所述清洁机本体设置有清洗室和供气装置，所述供气装置用于向所述清洗室输送气流，并使所述气流对放置于所述清洗室内的工件进行清洁处理，所述排放装置包括排气管道和风扇，所述排气管道与所述清洗室连通，所述风扇能够驱动所述清洗室内的所述气流进入所述排气管道。

作为曝光机掩模清洗机的气流改善装置的一种优选方案，所述排气管道设置于所述清洁机本体的下方。

作为曝光机掩模清洗机的气流改善装置的一种优选方案，所述清洁机本体的下侧壁开设有用于连通所述清洗室和所述排气管道的气流排出口，所述风扇设置于所述排气管道靠近所述气流排出口的一端。

作为曝光机掩模清洗机的气流改善装置的一种优选方案，所述风扇的边缘部在所述下侧壁的正投影位于所述气流排出口的外部。

作为曝光机掩模清洗机的气流改善装置的一种优选方案，所述清洗室内设置有用于放置所述工件的支撑台，所述支撑台与所述清洁机本体的下侧壁连接，且所述支撑台与所述下侧壁间隔。

作为曝光机掩模清洗机的气流改善装置的一种优选方案，所述支撑台与所述清洗室的内壁间隔，和/或者，

所述支撑台开设有贯穿其上下两侧面的连通孔。

作为曝光机掩模清洗机的气流改善装置的一种优选方案，所述排气管道与所述清洁机本体可拆卸连接。

作为曝光机掩模清洗机的气流改善装置的一种优选方案，所述排气管道远离所述清洗室的一端设置有粉尘收集装置。

作为曝光机掩模清洗机的气流改善装置的一种优选方案，所述清洁机本体的一端设置有进出口和隔离门，所述进出口连通所述清洗室与所述清洁机本体的外部，所述隔离门可选择性封堵所述进出口。