[实用新型]功率半导体器件有效

专利信息
申请号: 202022541853.X 申请日: 2020-11-06
公开(公告)号: CN213150786U 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 朱袁正;黄薛佺;杨卓;叶鹏 申请(专利权)人: 无锡新洁能股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;G05B19/042
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良;陈丽丽
地址: 214131 江苏省无锡市滨湖区高浪东路999号*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 功率 半导体器件
【说明书】:

本实用新型涉及半导体器件技术领域,具体公开了一种功率半导体器件,功率半导体器件被划分为终端区和元胞区,终端区环绕元胞区设置,其中,功率半导体器件包括第一MOSFET器件和第二MOSFET器件,第一MOSFET器件的源极与第二MOSFET器件的源极连接后作为功率半导体器件的源极,第一MOSFET器件的漏极和第二MOSFET器件的漏极连接后作为功率半导体器件的漏极,第一MOSFET器件的栅极作为功率半导体器件的第一栅极,第二MOSFET器件的栅极作为功率半导体器件的第二栅极,位于元胞区内的第一MOSFET器件的元胞的数量大于第二MOSFET器件的元胞的数量。本实用新型提供的功率半导体器件具有高可靠性的优势。

技术领域

本实用新型涉及半导体器件技术领域,尤其涉及一种功率半导体器件。

背景技术

通常情况下,MOSFET器件作为开关器件在半导体电路中被广泛运用。作为开关器件,对MOSFET器件的基本要求是,在MOSFET开启状态下,器件的导通电阻要足够低,在MOSFET关断状态下,器件能够阻断高压,器件的漏电流也要足够小。

然而,在锂电池保护、热插拔等应用场合下,对MOSFET器件的可靠性又提出了更高的要求,具体而言,要求MOSFET能在较长的时间范围内缓慢导通,MOSFET能承受较大的电流,即要求MOSFET具有较宽的安全工作区(SOA,Safety Operation Area)。

综上所述,在某些应用情况下,器件导通时,除了要求其具有较低的导通电阻之外,还要求其具有较宽的安全工作区以提高MOSFET器件工作时的可靠性。

因此,如何提供一种高可靠性的MOSFET器件成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

本实用新型提供了一种功率半导体器件,解决相关技术中存在的可靠性低的问题。

作为本实用新型的一个方面,提供一种功率半导体器件,所述功率半导体器件被划分为终端区和元胞区,所述终端区环绕所述元胞区设置,其中,所述功率半导体器件包括第一MOSFET器件和第二MOSFET器件,所述第一MOSFET器件的源极与所述第二MOSFET器件的源极连接后作为所述功率半导体器件的源极,所述第一MOSFET器件的漏极和所述第二MOSFET器件的漏极连接后作为所述功率半导体器件的漏极,所述第一MOSFET器件的栅极作为所述功率半导体器件的第一栅极,所述第二MOSFET器件的栅极作为所述功率半导体器件的第二栅极,位于所述元胞区内的所述第一MOSFET器件的元胞的数量大于所述第二MOSFET器件的元胞的数量。

进一步地,位于所述元胞区内的所述第一MOSFET器件的元胞与所述第二MOSFET器件的元胞交叉设置。

进一步地,位于所述元胞区内的所述第二MOSFET器件的元胞的数量与所述第一MOSFET器件的元胞的数量的比例为1:N,其中N的取值范围为5~100。

进一步地,位于所述元胞区内的所述第一MOSFET器件的栅极引线连接所述第一MOSFET器件的栅极焊盘,位于所述元胞区内的所述第二MOSFET器件的栅极引线连接所述第二MOSFET器件的栅极焊盘。

本实用新型提供的功率半导体器件,既能实现器件工作在线性区实现低导通电阻的需要,又能实现器件工作在饱和区时实现宽安全工作区的需求。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型,但并不构成对本实用新型的限制。

图1为本实用新型提供的功率半导体器件的电路原理图。

图2为本实用新型提供的功率半导体器件的版图示意图。

图3为本实用新型提供的第一MOSFET器件M1与第二MOSFET器件M2的热不稳定性曲线图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡新洁能股份有限公司,未经无锡新洁能股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022541853.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top