[实用新型]一种半导体顶针的镜面研磨机

权利要求书

1.一种半导体顶针的镜面研磨机，其特征在于，包括第一连接架(1)、工作台(3)、液压缸(5)、第一研磨盘(7)、第二研磨盘(8)、处理箱(9)和两组溶液泵(12)，第一连接架(1)的底端左侧设置有第二连接架(2)，第二连接架(2)的底端与工作台(3)的顶端左侧连接，工作台(3)的顶端右侧设置有第三连接架(4)，第三连接架(4)的顶端与第一连接架(1)的底端右侧连接，第三连接架(4)上设置有控制面板，液压缸(5)安装在第一连接架(1)上，液压缸(5)的底端设置有电机(6)，电机(6)的底部输出端设置有安装架，第一研磨盘(7)安装在安装架上，第二研磨盘(8)的底端与工作台(3)的顶端连接，第二研磨盘(8)上设置有固定槽，处理箱(9)底端的左前侧、左后侧、右前侧和右后侧均设置有支架(10)，四组支架(10)的底端均与第一连接架(1)的顶端连接，处理箱(9)的内部设置有工作腔，工作腔的顶端左侧连通设置有进水管(11)，两组溶液泵(12)的底端均与第一连接架(1)的顶端连接，并且两组溶液泵(12)均位于处理箱(9)的前侧，两组溶液泵(12)的输出端均连通设置有第一导气管(13)，两组第一导气管(13)的输出端分别穿过处理箱(9)的左右两端并且均伸入至处理箱(9)的工作腔内，两组溶液泵(12)的底部输入端均连通设置有第二导气管(14)，两组第二导气管(14)的底部输入端均自上而下穿过第一连接架(1)，两组第二导气管(14)的底部输入端均连通设置有导气罐(15)，两组导气罐(15)的底部输入端均连通设置有多组进气管(16)。

2.如权利要求1所述的一种半导体顶针的镜面研磨机，其特征在于，还包括两组第一固定架(17)、两组第二固定架(18)、两组第三固定架(19)和两组第四固定架(20)，两组第一导气管(13)分别通过两组第一固定架(17)、两组第二固定架(18)和两组第三固定架(19)与处理箱(9)的内外壁以及第一连接架(1)的顶端连接，两组导气罐(15)分别通过两组第四固定架(20)与第三连接架(4)和液压缸(5)连接。

3.如权利要求2所述的一种半导体顶针的镜面研磨机，其特征在于，还包括管帽(21)，管帽(21)套装在进水管(11)的顶部输入端外侧，管帽(21)上设置有多组通气孔。

4.如权利要求3所述的一种半导体顶针的镜面研磨机，其特征在于，还包括多组伸缩杆(22)，多组伸缩杆(22)的顶端均与安装架的底部连接。

5.如权利要求4所述的一种半导体顶针的镜面研磨机，其特征在于，多组伸缩杆(22)上均设置有弹簧(23)。

6.如权利要求5所述的一种半导体顶针的镜面研磨机，其特征在于，工作台(3)的内部设置有腔室，腔室的前端设置有开口，开口内设置有箱门(24)，箱门(24)的前端设置有两组把手(25)。

7.如权利要求6所述的一种半导体顶针的镜面研磨机，其特征在于，工作台(3)底端的左前侧、左后侧、右前侧和右后侧均设置有滚轮(26)。