[实用新型]一种内弧面均匀分布高磁通密度的磁瓦成型模具

权利要求书

1.一种内弧面均匀分布高磁通密度的磁瓦成型模具，包括支架（2），其特征在于：所述支架（2）的中部贯穿开设有挤压槽（7），所述支架（2）的底端相对于挤压槽（7）的正下方设置有下模（5），所述下模（5）的内部开设有安装槽（10），所述安装槽（10）的内部放置有挤压头（8），所述安装槽（10）的内壁相对于挤压头（8）的表面开设有紧固垫，所述挤压头（8）的底端固定有安装垫A（14），所述安装槽（10）的底端相对于安装垫A（14）的下方固定有安装垫B（15），所述安装垫A（14）和安装垫B（15）的表面紧密贴合，所述下模（5）的内部贯穿开设有限位槽B（13），所述挤压头（8）的内部相对于限位槽B（13）的位置开设有限位槽A（12），所述限位槽A（12）和限位槽B（13）的内部贯穿固定有限位杆（11），所述限位杆（11）同限位槽B（13）和限位槽A（12）之间通过螺纹相连接。

2.根据权利要求1所述的一种内弧面均匀分布高磁通密度的磁瓦成型模具，其特征在于：所述下模（5）的两端对称固定有缓冲块（4），所述缓冲块（4）的内部开设有滑动槽B（20），所述滑动槽B（20）的内部设置有滑动杆（18），所述滑动杆（18）的底端和滑动槽B（20）的底面之间通过弹簧相连接，所述滑动杆（18）的顶端贯穿滑动槽B（20）并延伸至缓冲块（4）的外部，所述滑动杆（18）延伸出去的一端固定有缓冲垫（17），所述滑动杆（18）的两侧对称固定有固定凸起（19），所述滑动槽B（20）的内壁相对于固定凸起（19）的位置开设有滑动槽A（16），所述固定凸起（19）嵌入至滑动槽A（16）的内部。

3.根据权利要求1所述的一种内弧面均匀分布高磁通密度的磁瓦成型模具，其特征在于：所述挤压头（8）的顶端设置有不导磁层（3），所述不导磁层（3）和挤压头（8）之间设置有连接装置（9）。

4.根据权利要求3所述的一种内弧面均匀分布高磁通密度的磁瓦成型模具，其特征在于：所述不导磁层（3）两边的厚度为五到八毫米，所述不导磁层（3）中部的厚度为两边厚度的二分之一。

5.根据权利要求1所述的一种内弧面均匀分布高磁通密度的磁瓦成型模具，其特征在于：所述支架（2）的顶端设置有上模（1），所述上模（1）的内部贯穿开设有多个吸水孔（6）。

6.根据权利要求5所述的一种内弧面均匀分布高磁通密度的磁瓦成型模具，其特征在于：所述挤压头（8）由导磁材料制成，所述上模（1）由不导磁材料制成，所述挤压头（8）的顶面和上模（1）的底面皆设置有弧形成型面。