[实用新型]接触式成像设备

说明书

本发明公开了一种接触式成像设备，其包括壳体和探测器。壳体内具有暗室空间；探测器位于壳体内；探测器具有感光区域，感光区域的边长设置在60mm‑160mm之间，生物样品膜贴合于探测器的表面并位于感光区域的上方。探测器的感光区域的边长设置在60mm‑160mm之间，不仅能对大部分的生物样品膜进行曝光，而且也不会导致探测器的尺寸过大。这样的成像设备，在保证能对大部分的生物样品膜进行曝光的同时，使得探测器的尺寸在合适的范围内，进而使得探测器的良品率得到保证，从而保证生产成本不受影响。

技术领域

本发明涉及生物样品检测技术领域，特别涉及一种接触式成像设备。

背景技术

Western blot(简称WB)技术也就是蛋白质印记技术是生物医学研究最常用的技术之一。Western blot样品膜上分布着蛋白质条带，这些条带通常用化学发光的方法显现出来。对发光图案传统的采集方式有两种：一种是胶片法，胶片法是将样品膜和X光胶片贴合，化学发光的样品会在胶片上曝光出图案。采用胶片法虽然成像质量高，但是存在操作工序复杂的问题；另外一种是相机法，相机法是用CCD(电荷耦合器件)相机直接在暗室内对样品直接拍照。但是，相机CCD受距离和灵敏度等因素限制，光信号损失较大，往往需要长时间曝光才能获得足够清晰的信号。基于以上两种成像方法均存在体积大、占用空间大、成本高、不易搬运等的缺陷，现有技术中出现了一种新的成像方法，就是采用互补金属氧化物半导体芯片(简称CMOS)对样品膜进行接触式采集。这种方案中CMOS探测器与样品膜直接或者由很薄的透明树脂或者玻璃膜相隔，因此，也称之为接触式成像。

现有技术中的CMOS探测器有两种类型，一种是CMOS-APS称为无源像素传感器，另一种是CMOS-PPS称为有源像素传感器。CMOS-APS探测器良品率低，坏像素多，成本高，填充因子低，感光面积小，成像效率低；CMOS-PPS探测器，良品率高，坏像素少，成本低，填充因子高，感光面积更大，成像效率高。为了降低生产成本并提高成像效率，在生物样品膜进行采集的接触式成像设备中，通常采用CMOS-PPS探测器。

CMOS-PPS探测器的尺寸直接影响接触式成像设备的使用。如果探测器尺寸太小，探测器小于绝大部分WB样品膜的尺寸，不能对全部的膜进行曝光，如果尺寸太大，探测器的造价会很高，良品率会下降。因此，选择合适的探测器尺寸对于成像设备的应用和成本有直接的影响。

发明内容

本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术中的接触式成像设备中的探测器的尺寸太小导致不能对全部的生物样品膜进行曝光的缺陷，提供一种接触式成像设备。

本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题：

一种接触式成像设备，其特点在于，其包括：

壳体，所述壳体内具有暗室空间；

探测器，所述探测器为CMOS芯片探测器，所述探测器位于所述壳体内；所述探测器具有感光区域，所述感光区域的边长设置在60mm-160mm之间，生物样品膜贴合于所述探测器的表面并位于所述感光区域的上方。

较佳地，所述感光区域的长度为145mm，宽度为110mm。

较佳地，所述探测器包括一像素阵列，所述像素阵列形成所述感光区域。

较佳地，所述像素阵列包括多个呈阵列分布的像素，所述像素的尺寸为25um-150um之间。

较佳地，所述接触式成像设备还包括一保护面板，所述保护面板贴合于所述探测器。

较佳地，所述保护面板为光纤玻璃。

较佳地，所述光纤玻璃位于所述像素阵列的上方并与所述像素阵列贴合。

较佳地，所述生物样品膜贴附于所述保护面板上。

较佳地，所述壳体包括相互铰链连接的遮光盖和底座，所述探测器位于所述底座内的容置腔内。