[实用新型]一种涂胶保护治具

说明书

本实用新型涉及涂胶技术领域，尤其涉及一种涂胶保护治具。本实用新型提供的涂胶保护治具，包括作业平台和遮挡件，作业平台用于放置待涂胶器件；遮挡件可转动地设置在作业平台上，遮挡件能够转动并遮盖待涂胶器件的端子区，防止涂胶过程中保护胶溢至待涂胶器件的端子区，提高涂胶良品率。

技术领域

本实用新型涉及涂胶技术领域，尤其涉及一种涂胶保护治具。

背景技术

在晶圆级芯片封装结构制造过程中，通常需要在晶圆背面的三边涂覆保护胶，由于保护胶自身的流动性，保护胶容易溢至晶圆的端子区，造成晶圆的不良报废。因此，亟待需要一种涂胶保护治具以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种涂胶保护治具，防止涂胶过程中保护胶溢至待涂胶器件的端子区，提高涂胶良品率。

为实现上述目的，提供以下技术方案：

一种涂胶保护治具，包括：

作业平台，用于放置待涂胶器件；

遮挡件，可转动地设置在所述作业平台上，所述遮挡件能够转动并遮盖所述待涂胶器件的端子区。

作为所述涂胶保护治具的可选方案，所述遮挡件与所述待涂胶器件的端子区相接触的一侧设置有硅胶垫。

作为所述涂胶保护治具的可选方案，所述作业平台上设置有吸附孔，所述吸附孔与外界抽真空设备相连接，用于将所述待涂胶器件固定在所述作业平台上。

作为所述涂胶保护治具的可选方案，所述作业平台上具有多个用于放置所述待涂胶器件的工作位，多个所述工作位呈平行或阵列排布。

作为所述涂胶保护治具的可选方案，所述工作位为容纳槽，所述容纳槽的槽底面上设置有吸附孔。

作为所述涂胶保护治具的可选方案，所述遮挡件的数量为两个，两个所述遮挡件对称设置在所述作业平台的两侧。

作为所述涂胶保护治具的可选方案，所述遮挡件上开设有多个涂胶通槽，所述涂胶通槽内能够容置至少一个所述待涂胶器件，所述涂胶通槽的边框用于遮盖所述待涂胶器件的端子区，所述涂胶通槽用于露出所述待涂胶器件的待涂胶区。

作为所述涂胶保护治具的可选方案，所述涂胶保护治具还包括限位组件，所述限位组件包括至少两个间隔设置的定位件，所述待涂胶器件限制在两个所述定位件之间。

作为所述涂胶保护治具的可选方案，所述作业平台上设置有导向限位槽，所述定位件包括限位部和导向部，所述导向部滑动设置在所述导向限位槽中，所述限位部贴合于所述作业平台的上表面上，所述限位部能够随所述导向部移动并限位所述待涂胶器件。

作为所述涂胶保护治具的可选方案，所述定位件还包括拨动部，一个所述定位件的拨动部上设置有滑槽，另一个所述定位件的导向部与所述滑槽滑动配合。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：

本实用新型提供的涂胶保护治具，包括作业平台和遮挡件，作业平台用于放置待涂胶器件；遮挡件可转动地设置在作业平台上，遮挡件能够转动并遮盖待涂胶器件的端子区，防止涂胶过程中保护胶溢至待涂胶器件的端子区，提高涂胶良品率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对本实用新型实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据本实用新型实施例的内容和这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例一提供的涂胶保护治具的结构示意图；

图2为本实用新型实施例一提供的涂胶保护治具中遮挡件压在待涂胶器件上的结构示意图；