[实用新型]一种实用高效抛光废液处理装置有效

专利信息
申请号: 202022613150.3 申请日: 2020-11-12
公开(公告)号: CN214192821U 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 裴亚利;陈海海;贾得荣;操应军;刘阳 申请(专利权)人: 北京航天赛德科技发展有限公司
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04
代理公司: 北京方韬法业专利代理事务所(普通合伙) 11303 代理人: 马丽莲
地址: 100000 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 实用 高效 抛光 废液 处理 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种实用高效抛光废液处理装置,包括废液箱、压滤机、卸料盘、搅拌组件、斜坡支架和门形支架,所述废液箱放置在斜坡支架上;所述门形支架跨支在废液箱之上,门形支架的两立柱固定连接在废液箱的两侧壁外;所述压滤机安装在门型支架之上;所述卸料盘倾斜放置在废液箱上方,卸料盘的上端延伸至压滤机的滤饼排放口,下端延伸至废液箱侧壁上沿;所述搅拌组件安装在废液箱上方,叶片伸入废液箱内搅拌。本实用新型将各设备集成整合,减小占用空间,成套性好,便于工艺设置。

技术领域

本实用新型涉及抛光废液的处理技术领域,特别是涉及一种实用高效抛光废液处理装置。

背景技术

芯片是全球竞相研发的顶级工业技术,抛光硅晶圆是第二步关键技术,但由此产生的抛光废液环保处理问题,是硅片抛光加工企业面临的紧迫的问题。现有的抛光废液处理装置由多个设备完成多个工序,每个设备由不同的厂商生产,组成整个处理系统后,由于各自设备之间不易整合在一起,造成占地空间大,成套性差,不易于空间布置和工艺布置。

由此可见,上述现有的抛光废液处理装置在结构与使用上,显然仍存在有不便与缺陷,而亟待加以进一步改进。如何能创设一种新的实用高效抛光废液处理装置,实属当前重要研发课题之一。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种实用高效抛光废液处理装置,使其占用空间小,设备之间整合度高,成套性好,便于工艺布置,从而克服现有的抛光废液处理装置的不足。

为解决上述技术问题,本实用新型提供一种实用高效抛光废液处理装置,包括废液箱、压滤机、卸料盘和搅拌组件,所述废液箱为上方开放的箱体,所述搅拌组件安装在废液箱上方,搅拌组件的叶片伸入废液箱内,所述压滤机设置在废液箱的上方,并在压滤机的滤饼出口与废液箱侧壁上沿间倾斜放置有平板状的卸料盘。

作为本实用新型的一种改进,所述废液箱放置在斜坡支架上,废液箱上跨支有门形支架,所述门形支架的两立柱固定连接在废液箱的两侧壁外,压滤机安装在门形支架之上。

进一步地,所述废液箱内设有两道隔板,隔板的两侧固定连接在废液箱两侧内壁,隔板的上端与废液箱上端齐平,隔板的下端距离废液箱底部留有闸口,两个隔板将废液箱分隔成底部连通的等容积的三个区域,分别为第一区域、第二区域和第三区域,所述卸料盘遮盖在第一区域和第二区域的上方,所述搅拌组件安装在第三区域上方,叶片伸入第三区域内搅拌。

进一步地,所述卸料盘由焊接在废液箱上沿角钢提供支撑,卸料盘倾斜放置在角钢之上,所述卸料盘与水平面之间的角度为30°。

进一步地,所述卸料盘下端与废液箱的上沿之间留有狭缝,所述狭缝的宽度为10mm。

进一步地,所述搅拌组件安装在废液箱上方,废液箱两侧壁上沿之间焊接有两根槽钢梁,所述搅拌组件通过螺栓连接安装在槽钢梁上。

进一步地,所述废液箱的底部具有坡度,废液箱底部坡度与斜坡支架的坡度一致,坡度值为1:24。

进一步地,所述废液箱上设有清液溢流口,所述清液溢流口位于距废液箱上沿300mm处。

进一步地,所述废液箱、卸料盘和隔板上设置加强筋,废液箱的箱体内壁、隔板表面和卸料盘表面做防腐处理,所述废液箱外壁涂防锈漆。

进一步地,所述压滤机的清液排放管路上设有一支路,支路连通至配置罐,所述配制罐后管路连通至压料泵前。

采用这样的设计后,本实用新型至少具有以下优点:

1、各设备之间高度整合,占用空间小,成套性好,便于工艺设置。

2、卸料盘倾角30°,下端预设10mm的狭缝,专门为压滤机漏液回箱而设,干湿分开,有利滤饼保持形状,方便转运。

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